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J-GLOBAL ID：200903037183506362

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  井上 博貴 ,  釜淵 明 ,  落合 鋼志郎
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998261757
Publication number (International publication number)：2000010270
Application date： Sep. 16, 1998
Publication date： Jan. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 露光余裕度及び解像度に優れる化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下式(I)(式中、R1 及びR2 は互いに独立に、アルキル又はシクロアルキルを表すが、両者の合計炭素数は4〜10である)で示される構造単位を有し、アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、下式(II)(式中、Rは炭化水素残基を表す)で示される基を有し、光の作用で分解してアミンを生じる光塩基発生剤(C)を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下式(I)(式中、R1 及びR2 は互いに独立に、アルキル又はシクロアルキルを表すが、両者の合計炭素数は4〜10である)で示される構造単位を有し、アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、下式(II)(式中、Rは炭化水素残基を表す)で示される基を有し、光の作用で分解してアミンを生じる光塩基発生剤(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 B ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (21)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CA01 ,  2H025CA06 ,  2H025CA07 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB53 ,  2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-257756   Applicant：信越化学工業株式会社
• 感放射線組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-027847   Applicant：三菱化学株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-111309   Applicant：信越化学工業株式会社
• パターン形成用材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-347042   Applicant：ヘキストジャパン株式会社
• 特開平4-162040
  
• 特開平4-362642
  
• 感光性樹脂組成物およびこれを使用したパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-060109   Applicant：東レ株式会社
• 感光性組成物とこれを用いた微細パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-314009   Applicant：日本電気株式会社