Pat

J-GLOBAL ID：200903053418467659

感放射線組成物

Inventor： 塚本 美智徳 ,  新実 高明 ,  藤田 淳 ,  落合 為一
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996027847
Publication number (International publication number)：1997222733
Application date： Feb. 15, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高感度で高解像性であり、引き置き時間が長時間に及んでもレジストパターンの寸法変動を生じることなく、かつ、耐熱性に優れ、LSI、超LSI製造時のフォトリソグラフィ技術において優れ、工業的に極めて有用な感放射線組成物を得る。【解決手段】 構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂B、【化1】(ただし、R1 、R2 、R3 、R7 、R8 、及びR9 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、R4 及びR5 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上10以下のアルキル基を表し、R6 及びR10はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下のアルキル基を表す。また、R4 とR5 あるいはR4 とR6 とが互いに結合して、炭素数3以上10以下の環を形成していてもよい。)放射線により酸を発生する化合物C、及び該化合物Cにより発生した酸に対して塩基として作用する有機化合物Dを含有してなる感放射線組成物。

Claim (excerpt)：

構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂B、【化1】(ただし、R1 、R2 、R3 、R7 、R8 、及びR9 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、R4 及びR5 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上10以下のアルキル基を表し、R6 及びR10はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下のアルキル基を表す。また、R4 とR5 あるいはR4 とR6 とが互いに結合して、炭素数3以上10以下の環を形成していてもよい。)放射線により酸を発生する化合物C、及び該化合物Cにより発生した酸に対して塩基として作用する有機化合物Dを含有してなる感放射線組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-286168   Applicant：東京応化工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-171108   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-172899   Applicant：東京応化工業株式会社
• 放射感受性の組成物及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-304792   Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-125006   Applicant：株式会社東芝
• パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-090609   Applicant：株式会社日立製作所