露光用マスク及びフォーカスモニタ方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001015975
Publication number (International publication number)：2002221783
Application date： Jan. 24, 2001
Publication date： Aug. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】フォーカスモニタのために特別なマスクを用いることなく、投影光学系によるフォーカスを精度良く測定する。【解決手段】透明基板の一主面上のパターン領域にデバイスパターンが形成され、投影光学系を介してウェハ上にデバイスパターンを転写するために使用される露光用マスクであって、透明基板600の一主面上のパターン領域601の外側のカーフ領域602に設けられ、微細ピッチの小ボックスマークとこれを囲む大ボックスマークからなるフォーカスモニタ用パターン605と、フォーカスモニタ用パターン605の小ボックスマークからの回折光で且つ投影光学系の瞳を通過する±1次の回折光のうち何れか一方の成分を遮るペリクルフレーム608とを備えた。

Claim (excerpt)：

透明基板の一主面上のパターン領域にデバイスパターンが形成され、投影光学系を介してウェハ上にデバイスパターンを転写するために使用される露光用マスクであって、前記透明基板の一主面上の前記パターン領域の外側の領域に設けられ、パターンのピッチが異なる2種のパターンで形成されたフォーカスモニタ用パターンと、前記フォーカスモニタ用パターンのうちピッチが細かい方のパターンからの回折光で且つ前記投影光学系の瞳を通過する±回折光のうち何れか一方の成分を遮る遮蔽部とを具備してなることを特徴とする露光用マスク。

IPC (4)：

G03F 1/08 , G03F 1/14 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 1/08 P , G03F 1/14 J , G03F 1/14 K , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 516 A

F-Term (6)：

2H095BC32 , 2H095BC36 , 2H095BE05 , 5F046CB17 , 5F046DA14 , 5F046DB05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

投影露光用フォトマスクパターン、投影露光用フォトマスク、焦点位置検出方法、焦点位置制御方法および半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-261439 Applicant：松下電子工業株式会社
収差測定方法および収差測定用フォトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-355747 Applicant：株式会社東芝
ベストフォーカス計測方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-264658 Applicant：株式会社ニコン

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