干渉計による層厚決定

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：矢野敏雄 , 杉本博司 , 二宮浩康 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008531633
Publication number (International publication number)：2009509149
Application date： Aug. 02, 2006
Publication date： Mar. 05, 2009
Summary：

本発明は基板上の部分透過層、特に炭素に基づく摩耗保護層の層厚の測定のための干渉測定装置に関し、この層を自動的にその深さ方向(Z)に走査する走査装置を有し、この走査装置を用いて層構造に対して相対的に干渉平面(LE)がシフト可能であり、白色光干渉計(WLI)及び/又は波長走査干渉計(WLSI)を有する干渉計部分(IT)を有する。本発明はさらに相応の評価方法に関する。

Claim (excerpt)：

基板上の部分透過層の層厚の測定のための干渉測定装置であって、この部分透過層を自動的にその深さ方向(Z)において走査する走査装置を有し、該走査装置によって干渉平面(IE)が層構造に対して相対的にシフト可能であり、白色光干渉計(WLI)及び/又は波長走査干渉計(WLSI)を有する干渉計部分(IT)を有し、該干渉計部分(IT)には測定のために照射ユニット(LQ)から入力放射が供給され、該入力放射はビームスプリッタ(ST)によって分割され、一部分は基準ビーム路を介して基準ビーム(RST)として基準アーム(RA)に供給され、もう一方の部分はオブジェクトビーム路を介してオブジェクトビーム(OST)として測定において層構造を有するオブジェクトアーム(OA)に供給され、画像撮影器(BA)を有し、該画像撮影器(BA)は基準アーム(RA)及びオブジェクトアーム(OA)から戻ってくる干渉する放射を撮影し、電気信号に変換し、ならびに測定結果を供給するための後置配置された評価装置(AW)を有する、基板上の部分透過層の層厚の測定のための干渉測定装置において、同じままである基準ビーム路及びオブジェクトビーム路において所属の走査路が場合によっては境界面の予期される深さ構造を含めて少なくとも2つの互いに連続的に配置された検出すべき層構造の境界面の予期される又は事前測定においてもとめられた間隔と少なくとも同じ大きさに構成されているように、走査装置は形成されており、さらにa)白色光干渉計(WLI)として照射ユニット(LQ)を有する干渉計部分(IT)の形成において、入力放射のコヒーレンス長(LC)はせいぜい深さ走査において連続的に発生するコレログラムの干渉最大値が検出すべき境界面において異なるような大きさに選択され、及び/又は b)波長走査干渉計(WLSI)として照射ユニットを有する干渉計部分(IT)の形成において、狭帯域の常に同調可能な入力放射を有する照射ユニット(LQ)が形成され、この入力放射の帯域幅は、検出すべき連続的に存在する境界面の最小の予期される又は測定により推定された間隔が解像できるほどの大きさに選択され、及び/又は、 c)スペクトル広帯域の照射ユニット及び検出器として波長走査光学スペクトルアナライザを有する波長走査干渉計(WLSI)としての干渉計部分(IT)の形成において、入力放射の帯域幅は、検出すべき連続的に存在する境界面の最小の予期される又は測定により推定された間隔が解像できるほどの大きさに選択され、及び、 d)照射ユニット(LQ)の使用される波長スペクトルはスベクトル透過性に関して測定すべき層に適合されており、この層は少なくとも部分的に透過されることを特徴とする、基板上の部分透過層の層厚の測定のための干渉測定装置。

IPC (2)：

G01B 11/06 , G01B 9/02

FI (2)：

G01B11/06 G , G01B9/02

F-Term (25)：

2F064EE02 , 2F064FF07 , 2F064FF08 , 2F064GG12 , 2F064GG22 , 2F064GG52 , 2F064HH04 , 2F064HH08 , 2F065AA30 , 2F065BB01 , 2F065BB22 , 2F065CC19 , 2F065CC31 , 2F065FF52 , 2F065GG24 , 2F065GG25 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL02 , 2F065LL12 , 2F065LL46 , 2F065LL67 , 2F065QQ23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

被加工物認識装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-116831 Applicant：株式会社ディスコ
偏心測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-270736 Applicant：オリンパス株式会社
干渉計および形状測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-182958 Applicant：独立行政法人理化学研究所, 株式会社ジェネシア

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