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J-GLOBAL ID:200903039333357428

化学増幅型ホトレジスト組成物のモノマー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 竹本 松司 ,  杉山 秀雄 ,  湯田 浩一 ,  魚住 高博 ,  手島 直彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003134664
Publication number (International publication number):2004002416
Application date: May. 13, 2003
Publication date: Jan. 08, 2004
Summary:
【課題】化学増幅型ホトレジスト組成物のモノマーの提供。【解決手段】化学増幅型ホトレジスト組成物のモノマーは、化学構造式49に示される(I)の構造を具えた化合物であり、R1 はH或いはC1 -C4 のアルキル基、R2 は水酸基、C1 -C8 のアルコキシル基或いはC1 -C8 のチオアルキル基、Gは(CH2 )n 、O或いはS、そのうちnは0〜4の整数、Rcはラクトン基、mは1〜3の整数である。この化合物は良好な親水性、付着性及び抗ドライエッチング性を具えたポリマーの合成に適合し、特に他のモノマーと組み合わせて共重合によりポリマーを合成するのに適合する。【化49】
Claim (excerpt):
以下の化学構造式1において(I)で示される化合物であり、
IPC (5):
C07D307/93 ,  C07D307/88 ,  C07D493/08 ,  C08F20/10 ,  G03F7/039
FI (5):
C07D307/93 ,  C07D307/88 ,  C07D493/08 A ,  C08F20/10 ,  G03F7/039 601
F-Term (39):
2H025AA00 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4C037RA01 ,  4C037XA10 ,  4C071AA03 ,  4C071BB02 ,  4C071CC12 ,  4C071DD08 ,  4C071EE05 ,  4C071FF15 ,  4C071HH05 ,  4C071HH08 ,  4C071KK11 ,  4C071LL03 ,  4C071LL05 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA11P ,  4J100BA51P ,  4J100BC04P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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