塗布装置および塗布方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：須山佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998137019
Publication number (International publication number)：1999329938
Application date： May. 19, 1998
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】塗布液自体の性質を利用し、塗布液の粘度の高低への対応性に優れ、必要な部分にのみ処理剤を塗布することができ、処理剤の粘度や種類など広範囲の処理剤を使用でき、ノズルと基板との間隙やノズルの寸法精度などの機械的な精度を緩和できる塗布装置及び塗布方法を提供する。【解決手段】基板Gをスピンチャック15に保持し、基板Gの表面を横切る第1の方向にわたって配設されたレジストパイプ61の下面側に設けられた複数のレジストノズル61a,61a...から、前記基板Gの表面に対して所定間隔を隔てた複数の位置にレジスト液を供給し、レジスト液自身の性質により基板G上で薄くて均一なレジスト塗膜を形成するようにした。

Claim (excerpt)：

被処理基板を保持する保持手段と、前記被処理基板表面上の所定間隔を隔てた複数の位置に処理剤を供給する供給手段と、前記保持手段と前記供給手段とを相対的に移動させる手段と、を具備することを特徴とする塗布装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G03F 7/16 502

FI (5)：

H01L 21/30 564 C , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-196796 Applicant：セイコーエプソン株式会社
塗布ノズル、この塗布ノズルを用いた塗布方法及びこの塗布ノズルを組み込んだ塗布装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-094196 Applicant：東京応化工業株式会社
塗布膜形成方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-249226 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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