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J-GLOBAL ID：200903039369452230

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
三枝 浩

About 三枝 浩


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008043412
Publication number (International publication number)：2009199021
Application date： Feb. 25, 2008
Publication date： Sep. 03, 2009
Summary：
【課題】本発明の目的は、通常露光(ドライ露光)によるパターニングにおいて、100nm以下の微細パターンの形成においても、プロファイル形状、パターン倒れ、露光ラチチュード性能に優れ、液浸露光によるパターニングにも優れたポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)エステル結合が窒素原子に結合した構造を有するアミン化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)一般式(C-I)で表される化合物または一般式(C-I)で表される化合物の複数を任意の連結基で結合した化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (15)：
2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
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