感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997187223
Publication number (International publication number)：1999024273
Application date： Jun. 30, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】各種の放射線に有効に感応し、解像性能に優れるとともに、特に孤立パターンの焦点深度にも優れ、多様な高精度の微細パターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)m-ヒドロキシ(α-メチル)スチレン単位と(メタ)アクリル酸t-ブチル単位とを含有し、(メタ)アクリル酸t-ブチル単位の含有率が該単位とm-ヒドロキシ(α-メチル)スチレン単位との合計に対して5〜50モル%の範囲にある共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)で表される繰返し単位(1)と下記式(2)で表される繰返し単位(2)とを有し、共重合体中の繰返し単位(2)の含有率が繰返し単位(1)と繰返し単位(2)との合計に対して5〜50モル%の範囲にある共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基を示す。)【化2】(式中、R2 は水素原子またはメチル基を示す。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/029 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-268112 Applicant：日本合成ゴム株式会社
特開平4-211258
フォトレジストイメージ形成プロセスおよび集積回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-275953 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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