新規なコポリマーとコポリマー樹脂バインダー成分からなるフォトレジスト組成物

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐伯憲生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997188849
Publication number (International publication number)：1998186665
Application date： Jun. 11, 1997
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は新規な共重合体及び該共重合体を樹脂バインダ成分として含有するフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】本発明の好ましい共重合体は、三つの明確に区別しうる繰り返し単位:即ち、(1)酸活性基を含有する単位、(2)反応性部分及びヒドロキシ部分を含有しない単位、及び(3)樹脂バインダとして該共重合体を含有するフォトレジストの水性現像に寄与する単位を含むものである。本発明のフォトレジストにより、プラズマエッチング耐性や孤立ライン特性の著しい向上並びに解像度の良好な制御など、リソグラフィー性能の驚くべき改良がなされる。

Claim (excerpt)：

光活性成分と、コポリマーを含有する樹脂バインダーとを含んでなるフォトレジスト組成物であって、該コポリマーは、(1)酸活性基を含有する単位と、(2)反応基及びヒドロキシ基を含有しない単位と、(3)樹脂バインダーとして該コポリマーを含有するフォトレジストの水性現像に寄与する単位とを含むことを特徴とする前記フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/30 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/30 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 569 F

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-173830 Applicant：和光純薬工業株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-005795 Applicant：住友化学工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-270332 Applicant：日本合成ゴム株式会社

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Cited by examiner (8)

新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-173830 Applicant：和光純薬工業株式会社
レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071337 Applicant：信越化学工業株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-005795 Applicant：住友化学工業株式会社

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