光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007249698
Publication number (International publication number)：2008105414
Application date： Sep. 26, 2007
Publication date： May. 08, 2008
Summary：

【課題】光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性(I)、塗布性(II)、エッチング適性のいずれにも優れた組成物を提供する。【解決手段】重合性不飽和単量体を88〜99質量%と、光重合開始剤0.1〜11質量%と、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種0.001〜5質量%とを含み、前記重合性不飽和単量体として、分子内にエチレン性不飽和結合を有する部位とヘテロ原子の少なくとも1種を有する部位を含有する1官能重合性不飽和単量体の1種を前記重合性不飽和単量体中10質量%以上含むことを特徴とする光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を採用した。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

重合性不飽和単量体を88〜99質量%と、光重合開始剤0.1〜11質量%と、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種0.001〜5質量%とを含み、前記重合性不飽和単量体として、分子内にエチレン性不飽和結合を有する部位とヘテロ原子の少なくとも1種を有する部位を含有する1官能重合性不飽和単量体の1種を前記重合性不飽和単量体中10質量%以上含むことを特徴とする光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物。

IPC (6)：

B29C 59/02 , C08F 2/44 , H01L 21/027 , C08F 20/10 , C08F 20/52 , C08F 26/02

FI (7)：

B29C59/02 Z , C08F2/44 B , H01L21/30 502D , H01L21/30 502R , C08F20/10 , C08F20/52 , C08F26/02

F-Term (55)：

4F209AA36 , 4F209AA43 , 4F209AA44 , 4F209AB10 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PQ11 , 4J011AC04 , 4J011FA07 , 4J011FB01 , 4J011FB19 , 4J011GA05 , 4J011GB04 , 4J011PA24 , 4J011PA47 , 4J011PA99 , 4J011PB32 , 4J011PB40 , 4J011PC02 , 4J011PC08 , 4J011WA01 , 4J011WA07 , 4J100AF10P , 4J100AL08P , 4J100AM17P , 4J100AM21P , 4J100AN04P , 4J100AQ06P , 4J100AQ08P , 4J100AQ15P , 4J100AQ19P , 4J100BA03P , 4J100BA11P , 4J100BA31P , 4J100BA42P , 4J100BC02P , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC26P , 4J100BC53P , 4J100BC54P , 4J100BC58P , 4J100BC65P , 4J100BC66P , 4J100BC68P , 4J100BC79P , 4J100BC83P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100FA03 , 4J100JA37 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (19)

米国特許第5,772,905号公報
光記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-270174 Applicant：ソニーケミカル株式会社
活性光線硬化型インクジェットインク組成物、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-174711 Applicant：コニカミノルタエムジー株式会社

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Cited by examiner (2)

転写体の製造方法、光硬化性組成物、および微細構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-238817 Applicant：旭硝子株式会社
紫外線硬化性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-212621 Applicant：大日本インキ化学工業株式会社

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