パターンの形成方法およびパターンを有する物品

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005236223
Publication number (International publication number)：2006114882
Application date： Aug. 17, 2005
Publication date： Apr. 27, 2006
Summary：

【課題】モールドのパターンを連続して精密に基板上に転写できるパターンの形成方法およびパターンが精密に転写された物品を提供する。【解決手段】フッ素含有量が40〜70質量%の重合性化合物(A)および重合開始剤(B)を含有する硬化性材料を基板12上に塗布する工程と、凹凸パターン13が形成されたモールド14を基板12上の硬化性材料に押しつける工程と、硬化性材料を硬化させる工程と、硬化性材料の硬化物16からモールド14を分離する工程とを有するパターンの形成方法により解決される。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

フッ素含有量が40〜70質量%の重合性化合物(A)、および重合開始剤(B)を含有する硬化性材料を基板上に塗布する工程と、表面にパターンが形成されたモールドを、パターンが硬化性材料に接触するように、基板上の硬化性材料に押しつける工程と、モールドを硬化性材料に押しつけた状態で硬化性材料を硬化させる工程と、硬化性材料の硬化物からモールドを分離する工程とを有することを特徴とするパターンの形成方法。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (1)：

5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

米国特許第5772905号明細書
微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-130608 Applicant：日本電気株式会社
加工方法及び成形体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-358296 Applicant：株式会社東芝

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Cited by examiner (11)

マイクロレンズアレイ、液晶表示素子及び投射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-144519 Applicant：ソニー株式会社
インプリント温度や圧力を低下させるための、ナノインプリンティングリソグラフィー用ポリマー溶液
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-557351 Applicant：ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
特開昭61-044628

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