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J-GLOBAL ID:200903040913677681

プラズマ処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 渡辺 昇 ,  原田 三十義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003304370
Publication number (International publication number):2004111385
Application date: Aug. 28, 2003
Publication date: Apr. 08, 2004
Summary:
【課題】 一対の長尺電極を平行に並べてなるプラズマ処理装置において、電極がクーロン力で歪むのを防止する。【解決手段】 プラズマ処理装置S1には、一対の長尺電極20を支持する電極ホルダ30が設けられている。電極ホルダ30には、複数の引きボルト35(接近歪阻止手段)が電極20の長手方向に互いに離れて設けられている。引きボルト35の頭部は、ボルトホルダ36を介して剛性板33に引っ掛けられ、脚部は、電極20にねじ込まれている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
一対をなす長尺状の電極を平行に並べ、これら電極どうし間に電界を印加するとともに、処理ガスを、これら電極の第1の長手側縁どうしの間から対向面間に導入し、第2の長手側縁どうしの間から吹出すプラズマ処理装置において、 各電極が上記並び方向に歪むのを阻止する歪阻止機構を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5):
H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/44 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065
FI (5):
H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C23C16/44 B ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101E
F-Term (22):
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA10 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4K030FA01 ,  4K030JA09 ,  4K030KA14 ,  4K030KA17 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (7)
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