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J-GLOBAL ID:200903040913677681
プラズマ処理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
渡辺 昇
, 原田 三十義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003304370
Publication number (International publication number):2004111385
Application date: Aug. 28, 2003
Publication date: Apr. 08, 2004
Summary:
【課題】 一対の長尺電極を平行に並べてなるプラズマ処理装置において、電極がクーロン力で歪むのを防止する。【解決手段】 プラズマ処理装置S1には、一対の長尺電極20を支持する電極ホルダ30が設けられている。電極ホルダ30には、複数の引きボルト35(接近歪阻止手段)が電極20の長手方向に互いに離れて設けられている。引きボルト35の頭部は、ボルトホルダ36を介して剛性板33に引っ掛けられ、脚部は、電極20にねじ込まれている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
一対をなす長尺状の電極を平行に並べ、これら電極どうし間に電界を印加するとともに、処理ガスを、これら電極の第1の長手側縁どうしの間から対向面間に導入し、第2の長手側縁どうしの間から吹出すプラズマ処理装置において、
各電極が上記並び方向に歪むのを阻止する歪阻止機構を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5):
H05H1/24
, B01J19/08
, C23C16/44
, H01L21/205
, H01L21/3065
FI (5):
H05H1/24
, B01J19/08 E
, C23C16/44 B
, H01L21/205
, H01L21/302 101E
F-Term (22):
4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA37
, 4G075BA05
, 4G075BA10
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EC21
, 4K030FA01
, 4K030JA09
, 4K030KA14
, 4K030KA17
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F045AA08
, 5F045BB01
, 5F045DP03
, 5F045EB02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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プラズマ処理システム及びプラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-344736
Applicant:松下電工株式会社
-
大気圧グロ-放電プラズマ処理法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-233026
Applicant:イーシー化学株式会社
Cited by examiner (7)
-
放電処理用の電極と該電極を用いた放電処理方法及び放電処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-300984
Applicant:コニカ株式会社
-
放電プラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-200835
Applicant:積水化学工業株式会社
-
堆積膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-344535
Applicant:キヤノン株式会社
-
堆積膜形成装置および堆積膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-023702
Applicant:キヤノン株式会社
-
プラスチックフィルムの放電電極の間隔調整装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-064354
Applicant:三菱重工業株式会社
-
ガス供給ノズル及びラジカル反応式精密加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-140536
Applicant:株式会社新潟鉄工所
-
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-154490
Applicant:松下電工株式会社
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