新規N-スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002364254
Publication number (International publication number)：2003252855
Application date： Dec. 16, 2002
Publication date： Sep. 10, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で示されるN-スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物。【化1】(Rは、H、F、NO2、又はアルキル基又はアルコキシ基、nは0又は1、mは1又は2、rは0〜4、r’は0〜5、Gは単結合又は二重結合、pとqは独立にH又はアルキル基を示し、あるいはpとqとは互いに結合してそれらが結合している炭素原子を含めて脂肪族環状構造、複素環状構造又は芳香環構造を形成してもよい。)【効果】本発明の化合物を用いた化学増幅型レジスト材料は、解像性、焦点余裕度に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるN-スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物。【化1】(式中、Rは同一でも異なってもよく、水素原子、フッ素原子、ニトロ基、又は炭素数1〜4の直鎖状、分岐状又は環状の置換もしくは非置換のアルキル基又はアルコキシ基を示す。nは0又は1であり、mは1又は2である。rは0〜4の整数、r’は0〜5の整数である。Gは単結合又は二重結合を示し、pとqは独立に水素原子又は炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル基を示し、あるいはpとqとは互いに結合してそれらが結合している炭素原子を含めて脂肪族環状構造、複素環状構造又は芳香環構造を形成してもよい。)

IPC (5)：

C07D207/408 , C07D209/76 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5)：

C07D207/408 , C07D209/76 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (24)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC07 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4C069AC36 , 4C069BC10 , 4C204CB19 , 4C204DB30 , 4C204EB03 , 4C204FB33 , 4C204GB01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特許第258450号公報
特許第2839172号公報
N-スルホニルオキシイミド化合物およびそれを用いた感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-336666 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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Cited by examiner (5)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-250518 Applicant：富士写真フイルム株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-057719 Applicant：信越化学工業株式会社
新規スルホニルジアゾメタン化合物及びレジスト材料用の光酸発生剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-230142 Applicant：信越化学工業株式会社

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