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J-GLOBAL ID：200903059367385928

N-スルホニルオキシイミド化合物およびそれを用いた感放射線性樹脂組成物

Inventor：
王 勇

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小林 英一

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宮路 正昭

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沼田 淳

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下川 努

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Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

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Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000336666
Publication number (International publication number)：2001199955
Application date： Nov. 02, 2000
Publication date： Jul. 24, 2001
Summary：
【要約】【課題】高感度で効率良く酸を発生でき、揮発や副反応の問題がなく、レジスト保存時に暗反応を抑制でき、感放射線性化学増幅型レジストの感放射線性酸発生剤成分として有用なN-スルホニルオキシイミド化合物、及びそれを用いたポジ型及びネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 式(1):【化1】〔式(1)中、Xは単結合又は二重結合を示し、YとZは独立に水素原子などを示すか、共同して環状構造を形成する;Rは下記一般式(2):【化2】(式中、X1 はエステル結合を有する有機基、R1 はアルキル基またはアルコキシル基を示し、mは1〜11の整数、nは0〜10の整数で、m+n≦11を満たす。)で示される基である。〕で表されるN-スルホニルオキシイミド化合物、及び該化合物を感放射線性酸発生剤として含有する化学増幅型のポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt)：
下記一般式(1):【化1】〔式(1)中、Xは単結合または二重結合を示し、YとZは独立に水素原子または炭素原子数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル基を示し、あるいはYとZとは共同してそれらが結合している炭素原子を含めて脂肪族環状構造または複素環状構造を形成してもよい;Rは下記一般式(2):【化2】(式(2)中、X1 は炭素原子数2〜10の、エステル結合を有する有機基を示し、X1が複数存在する場合はそれらのX1 は相互に同一でも異なってもよく、R1 は炭素原子数1〜10のアルキル基または炭素原子数1〜10のアルコキシル基を示し、R1が複数存在する場合はそれらのR1 は相互に同一でも異なってもよく、mは1〜11の整数、nは0〜10の整数で、m+n≦11を満たす。)で示される基である。〕で表されるN-スルホニルオキシイミド化合物。
IPC (5)：
C07D207/46 ,  C07D209/76 ,  C07D491/18 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (5)：
C07D207/46 ,  C07D209/76 ,  C07D491/18 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
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