マイクロリソグラフィ投射露光装置の投射対物レンズ

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山川政樹 , 山川茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006553476
Publication number (International publication number)：2007523485
Application date： Feb. 01, 2005
Publication date： Aug. 16, 2007
Summary：

マイクロリソグラフィ投射露光システムの投射レンズは、複数の光学要素(15、16、18、20、L1〜L4)を備える。選択された光学要素(20)、たとえば、ミラーは、アクチュエータ(30、130、330、430、530)によって生成される機械的力を加えることによって変形する。マニピュレータ(26a、26b、26c、126a、126b、226a、226b、326a、326b、326c、426a、426b、426c、526b)を使用して、光学要素、特に、変形された光学要素(20)の1つの空間位置が、アクチュエータ(30;130、330、430、530)によって加えられる力に応じて変えられる。これによって、取り付けユニット(22a、22b、22c、122a、122b、222a、222b)の相互作用とアクチュエータ(30、130、330、430、530)によって生成される力によって起こる、傾斜動きまたは位置の他の変化が、少なくとも部分的に相殺される。

Claim (excerpt)：

複数の光学要素(15、16、18、20、L1〜L4)と、投射対物レンズ(10)の選択された光学要素(20)を変形させることができる機械的力を加える少なくとも1つのアクチュエータ(30;130;330;430;530)とを有しているマイクロリソグラフィ投射露光装置の投射対物レンズであって、前記光学要素(20)のうちの1つの光学要素の空間位置を、好ましくは、前記アクチュエータ(30;130;330;430;530)によって加えられる前記力に応じて自動的に修正する少なくとも1つのマニピュレータ(26a、26b、26c;126a、126b;226a、226b;326a、326b、326c;426a、426b、426c;526b)を有することを特徴とする投射対物レンズ。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G02B 5/10

FI (3)：

H01L21/30 516A , G03F7/20 521 , G02B5/10 B

F-Term (15)：

2H042DA20 , 2H042DD05 , 2H042DD12 , 2H042DD13 , 5F046BA03 , 5F046BA05 , 5F046CB01 , 5F046CB02 , 5F046CB03 , 5F046CB12 , 5F046CB25 , 5F046DA01 , 5F046DA13 , 5F046DA27 , 5F046DB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-556280 Applicant：カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス
光学系における収差の能動補償のための装置、システム、および方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-579009 Applicant：エーエスエムエルユーエス,インコーポレイテッド
反射ミラー保持装置及び投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-318656 Applicant：株式会社ニコン

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