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J-GLOBAL ID:200903044600876000
磁気ランダムアクセスメモリ
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 忠彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006222707
Publication number (International publication number):2008047739
Application date: Aug. 17, 2006
Publication date: Feb. 28, 2008
Summary:
【課題】デュアル構成のMR素子を使ったMRAMにおいて、さらに書き込み電流を低減し、MR素子の再生出力を向上させる。【解決手段】磁気ランダムアクセスメモリは、2層以上の強磁性層を、間に非磁性中間層を介して積層した積層構造を具備し、前記積層構造中、前記強磁性層の一が情報を磁化の形で保持する記録層を構成し、書き込み電流を前記積層構造の上端と下端の間で流す構成の磁気抵抗素子を含み、少なくとも一の強磁性層がホイスラー型合金膜を含む。【選択図】図3B
Claim (excerpt):
2層以上の強磁性層を、間に非磁性中間層を介して積層した積層構造を具備し、前記積層構造中、前記強磁性層の一が情報を磁化の形で保持する記録層を構成し、書き込み電流を前記積層構造の上端と下端の間で流す構成の磁気抵抗素子を含む磁気ランダムアクセスメモリにおいて、
少なくとも一の強磁性層がCo2YX(Y=Fe,Mn,Cr,X=Al,Si,Ge,Sb,Ga)型のホイスラー型合金膜を含むことを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ。
IPC (6):
H01L 21/824
, H01L 27/105
, H01L 43/08
, H01L 43/10
, G11C 11/15
, H01F 10/32
FI (5):
H01L27/10 447
, H01L43/08 M
, H01L43/10
, G11C11/15 112
, H01F10/32
F-Term (35):
4M119AA03
, 4M119BB01
, 4M119BB03
, 4M119DD10
, 4M119DD33
, 4M119DD45
, 4M119DD55
, 4M119JJ03
, 5E049AA04
, 5E049BA25
, 5E049CB02
, 5E049DB12
, 5E049DB14
, 5F092AA02
, 5F092AB08
, 5F092AC08
, 5F092AC12
, 5F092AD03
, 5F092AD25
, 5F092BB04
, 5F092BB10
, 5F092BB17
, 5F092BB22
, 5F092BB24
, 5F092BB31
, 5F092BB35
, 5F092BB36
, 5F092BB43
, 5F092BB44
, 5F092BC03
, 5F092BC04
, 5F092BC07
, 5F092BC12
, 5F092BC46
, 5F092CA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-387331
Applicant:ソニー株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
-
磁性体トンネル接合素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-092034
Applicant:株式会社東芝
-
半導体装置および半導体記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-290639
Applicant:松下電器産業株式会社
Cited by examiner (4)
-
磁気抵抗効果素子および磁気メモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-203783
Applicant:株式会社東芝
-
ホイスラー合金膜の成膜方法及びトンネル磁気抵抗素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-356203
Applicant:株式会社アルバック
-
固体メモリ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-261601
Applicant:国立大学法人名古屋大学, 三洋電機株式会社
-
磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-387331
Applicant:ソニー株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
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