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J-GLOBAL ID:200903045495945358
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岩見谷 周志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998055998
Publication number (International publication number):1999065110
Application date: Feb. 20, 1998
Publication date: Mar. 05, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】解像度、現像性、耐熱性、パターン形状、露光マージンさらにフォーカス許容性の各特性に優れており、しかもこれらの特性がバランス良く発揮されるポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のフェノール、ならびに石炭酸、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール等からなる群から選ばれる少なくとも1種のフェノールからなるフェノール化合物と、アルデヒドとを酸性触媒存在下で縮合して得られるアルカリ可溶性樹脂、ならびに(B)キノンジアジドスルホン酸エステル化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のフェノール、ならびに石炭酸、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、2,3-ジメチルフェノール、2,5-ジメチルフェノール、2,6-ジメチルフェノール、3,4-ジメチルフェノール、3,5-ジメチルフェノール、2,3,5-トリメチルフェノール、3,4,5-トリメチルフェノール、レゾルシノール、2-メチルレゾルシノール、4-エチルレゾルシノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、カテコール、4-メチル-カテコール、ピロガロール、フロログルシノール、チモールおよびイソチモールからなる群から選ばれる少なくとも1種のフェノールからなるフェノール化合物と、アルデヒドとを酸性触媒存在下で縮合して得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、ならびに(B)キノンジアジドスルホン酸エステル化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】[式中、R1およびR2は、同一または異なり、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはアリール基である]
IPC (3):
G03F 7/023 511
, G03F 7/022 601
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/023 511
, G03F 7/022 601
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-091280
Applicant:日本ゼオン株式会社
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ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-323168
Applicant:東京応化工業株式会社
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特開平2-115848
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感光性樹脂組成物及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-136184
Applicant:住友化学工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-312268
Applicant:住友化学工業株式会社
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特開平4-174438
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-333798
Applicant:住友化学工業株式会社
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特開昭63-002044
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特開平1-105243
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特開平3-273251
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フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-075356
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特開平3-230163
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