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J-GLOBAL ID:200903045614366230
複合微細構造体およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
植木 久一
, 菅河 忠志
, 二口 治
, 伊藤 浩彰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007075356
Publication number (International publication number):2008230925
Application date: Mar. 22, 2007
Publication date: Oct. 02, 2008
Summary:
【課題】略同一粒径の金属化合物微粒子が、マトリックスである異種金属化合物相の中に規則的に配列充填された三次元構造を有する複合微細構造体を、簡単に製造することのできる方法を見出して、フォトニック結晶や様々な用途への適用が可能な複合微細構造体を提供すること。【解決手段】本発明の複合微細構造体は、第1の金属元素と16族元素から選択される1の非金属元素との化合物層の内部に、この第1の金属元素とは異なる第2の金属元素と前記16族非金属元素との化合物からなる略同一粒径の微粒子が最密充填されている。また、本発明の製造方法は、基板上に、略同一粒径の有機高分子微粒子を最密充填構造を採るように並べてテンプレートを形成し、LPD法により、前記テンプレートに第1の金属化合物を析出させ、有機高分子微粒子を除去し、再びLPD法により、有機高分子微粒子を除去した後の多数の空孔内に第2の金属化合物を析出させる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
第1の金属元素と16族元素から選択される1の非金属元素との化合物層の内部に、この第1の金属元素とは異なる第2の金属元素と前記16族非金属元素との化合物からなる略同一粒径の微粒子が最密充填されていることを特徴とする複合微細構造体。
IPC (3):
C01G 23/00
, B82B 1/00
, B82B 3/00
FI (4):
C01G23/00 C
, B82B1/00
, B82B3/00
, C01G23/00 D
F-Term (6):
4G047CA03
, 4G047CA05
, 4G047CB05
, 4G047CB08
, 4G047CC03
, 4G047CD03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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フォトニック結晶とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-247985
Applicant:科学技術振興事業団
Cited by examiner (14)
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周期性構造物および光学素子、ならびにその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-060252
Applicant:株式会社リコー
-
複合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-353282
Applicant:ホーヤ株式会社
-
フォトニック結晶とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-247985
Applicant:科学技術振興事業団
-
希土類含有金属酸化物薄膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-077724
Applicant:財団法人新産業創造研究機構
-
金属酸化物材料とその製造方法及びその利用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-185386
Applicant:株式会社日立製作所
-
固体表面の微細加工方法および発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-097930
Applicant:住友化学株式会社
-
コア/シェル粒子の使用
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-525057
Applicant:メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフトング
-
光学素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-147538
Applicant:株式会社リコー
-
微粒子構造体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-026771
Applicant:株式会社リコー
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異径微粒子団集積体の製造方法、異径微粒子団集積体及び異径微粒子団細線アレイ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-114500
Applicant:独立行政法人科学技術振興機構
-
光学素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-165387
Applicant:株式会社リコー
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三次元周期構造体および該三次元周期構造体を用いた導波路ならびに共振器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-349304
Applicant:株式会社リコー
-
三次元周期構造体及びデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-365990
Applicant:株式会社リコー
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撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-060063
Applicant:ヤマハ株式会社
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