Pat
J-GLOBAL ID：200903047053895702
高分子金属錯体及びガス吸着材としての利用並びにこれを用いたガス分離装置及びガス貯蔵装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (6)：
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004039860
Publication number (International publication number)：2005232222
Application date： Feb. 17, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：
【課題】 ガス吸着材として利用が可能な新規な高分子金属錯体を提供し、さらに、これを用いたガス分離装置及びガス貯蔵装置を提供する。【解決手段】 [XY2L2]n(ただし、式中Yは対イオン、Lは有機配位子を示す。)の構造単位を有する高分子金属錯体である。前記YとしてはBF4-イオンが、前記有機配位子Lとしては4,4’-ビピリジルが、それぞれ挙げられる。前記高分子金属錯体からなるガス吸着材は、ガス分離装置やガス貯蔵装置に適用されうる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記式(1)の単位構造を有する高分子金属錯体。
IPC (14)：
C08G79/00
, B01D53/02
, B01J20/26
, B60K15/03
, C01B3/56
, C01B13/02
, C01B17/16
, C01B17/60
, C01B21/04
, C01B21/24
, C01B31/18
, C01B31/20
, C01C1/12
, F17C11/00
C08G79/00
, B01D53/02 Z
, B01J20/26 A
, C01B3/56 Z
, C01B13/02 A
, C01B17/16 N
, C01B17/60 Z
, C01B21/04 K
, C01B21/24 Z
, C01B31/18 B
, C01B31/20 B
, C01C1/12 Z
, F17C11/00 A
, B60K15/08
3D038CA11
, 3D038CB01
, 3D038CC18
, 3E072EA01
, 4D012BA01
, 4D012CA03
, 4D012CA05
, 4D012CA06
, 4D012CA15
, 4D012CA16
, 4D012CA20
, 4D012CD07
, 4D012CG01
, 4G042BA16
, 4G042BA41
, 4G066AA02A
, 4G066AA32A
, 4G066AB03A
, 4G066AB24A
, 4G066AC11B
, 4G066CA23
, 4G066CA24
, 4G066CA27
, 4G066CA28
, 4G066CA29
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066CA38
, 4G066CA51
, 4G066DA01
, 4G066FA03
, 4G140FA06
, 4G140FC03
, 4G140FD05
, 4G140FD06
, 4G140FE01
, 4G146JA01
, 4G146JA02
, 4G146JB10
, 4G146JC07
, 4J030CA03
, 4J030CC02
, 4J030CC30
, 4J030CD11
, 4J030CG29
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