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J-GLOBAL ID:200903049335089744
膜状ヒータとその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (1):
北條 和由
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003424850
Publication number (International publication number):2005183272
Application date: Dec. 22, 2003
Publication date: Jul. 07, 2005
Summary:
【課題】 耐熱性に優れる炭化ケイ素膜を使用した高温加熱型のヒータであって、温度分布の均一性が高く、シリコンウエハ等の加熱物との温度整合性に優れ、しかも製造が容易な膜状ヒータを得る。【解決手段】 膜状ヒータは、低電気抵抗のパターニングされた炭化ケイ素膜からなり、通電により発熱する発熱体4と、高電気抵抗の膜状の炭化ケイ素膜からなり、前記発熱体4を支持すると共に、同発熱体4で発生した熱を面方向に伝熱する均熱膜5とを有するものである。このような膜状ヒータは、発熱体4のパターンに従い溝2を形成したカーボンからなる支持体1の表面上に低電気抵抗の炭化ケイ素膜3を成膜した後、支持体1の表面上を平面研削することにより、溝2内の発熱体4として残して他の炭化ケイ素膜3を除去し、その後支持体1の表面上に高電気抵抗の炭化ケイ素膜からなる均熱膜5を成膜した後、支持体1を焼却する。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
低電気抵抗のパターニングされた炭化ケイ素膜からなり、通電により発熱する発熱体(4)と、高電気抵抗の膜状の炭化ケイ素膜からなり、前記発熱体(4)を支持すると共に、同発熱体(4)で発生した熱を面方向に伝熱する均熱膜(5)とを有することを特徴とする膜状ヒータ。
IPC (6):
H05B3/20
, C23C16/42
, C23C16/46
, H05B3/12
, H05B3/14
, H05B3/74
FI (6):
H05B3/20 393
, C23C16/42
, C23C16/46
, H05B3/12 B
, H05B3/14 C
, H05B3/74
F-Term (32):
3K034AA04
, 3K034AA15
, 3K034AA16
, 3K034AA22
, 3K034BA06
, 3K034BA17
, 3K034BB06
, 3K034BC02
, 3K034BC16
, 3K034HA04
, 3K034HA10
, 3K034JA02
, 3K034JA10
, 3K092PP09
, 3K092QA05
, 3K092QB09
, 3K092QB32
, 3K092QB44
, 3K092QB45
, 3K092QB62
, 3K092RF03
, 3K092RF11
, 3K092RF17
, 3K092RF27
, 3K092SS12
, 3K092SS16
, 3K092TT19
, 3K092TT31
, 3K092VV22
, 4K030BA37
, 4K030CA05
, 4K030FA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-217415
Applicant:住友大阪セメント株式会社
-
ヒーター用均熱材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-373797
Applicant:太平洋セメント株式会社
-
セラミックヒータ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-191516
Applicant:株式会社ブリヂストン
-
セラミックヒータ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-229215
Applicant:日本特殊陶業株式会社
-
ヒーター部品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-231468
Applicant:株式会社ブリヂストン
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Cited by examiner (3)
-
加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-216609
Applicant:住友大阪セメント株式会社
-
半導体製造・検査装置用セラミックヒータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-124879
Applicant:イビデン株式会社
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特開平4-032184
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