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J-GLOBAL ID:200903039829830174

電子線レジスト、レジストパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 工業技術院産業技術融合領域研究所長
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998059547
Publication number (International publication number):1999258796
Application date: Mar. 11, 1998
Publication date: Sep. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】ドライエッチ耐性があり、分解能及び感度が高く、且つスピン・コートにより塗布することが可能な電子線レジスト、それを用いたレジストパターンの形成方法、及び微細パターンの形成方法の提供【構成】一般式(1) 【化1】 A-(B)n (1)(式中、Aはフラーレンを、Bは鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基の縮合環からなる多環式炭化水素化合物基であり、基の一部が酸素を含む置換基により置換されている基を表わす。nは1から5の整数を表す。)で表されるフラーレン誘導体からなることを特徴とする電子線レジスト、それを用いたレジストパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法
Claim (excerpt):
一般式(1) 【化1】 A-(B)n (1)(式中、Aはフラーレンを、Bは鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基の縮合環からなる多環式炭化水素化合物基であり、基の一部が酸素を含む置換基により置換されている基を表す。nは1から5の整数を表す。)で表されるフラーレン誘導体からなることを特徴とする電子線レジスト。
IPC (2):
G03F 7/038 501 ,  H01L 21/027
FI (2):
G03F 7/038 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 感光材料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-196572   Applicant:日本石油株式会社
  • フラーレン誘導体および感光材料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-202514   Applicant:日本石油株式会社
  • パターン形成材料及びパターン形成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-037222   Applicant:工業技術院長
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