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J-GLOBAL ID：200903009243666662

電子線レジスト

Inventor： 金山 敏彦 ,  多田 哲也 ,  リチャード エドワード パーマー ,  アレグザンダー フィリップ グレアム ロビンソン
Applicant, Patent owner： ザ ユニバーシティ オブ バーミンガム ,  金山 敏彦 ,  多田 哲也 ,  工業技術院長
Agent (2)： 阿形 明 ,  阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997257122
Publication number (International publication number)：1999143074
Application date： Sep. 22, 1997
Publication date： May. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 電子線感応性を有し、耐ドライエッチング性、解像度、感度に優れる上、基板上にスピンコート法により薄膜の形成が可能であって、ナノメーター・オーダーの微細加工に好適に用いられる電子線レジストを提供する。【解決手段】 フラーレンを化学修飾して得られるメタノフラーレン、好ましくは酸素原子を含む有機基を側鎖に有するメタノフラーレンから成る電子線レジストとする。

Claim (excerpt)：

フラーレンを化学修飾して得られるメタノフラーレンから成る電子線レジスト。

IPC (3)：

G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027 ,  C07C 69/76

FI (4)：

G03F 7/038 505 ,  C07C 69/76 A ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 541 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 感光材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-196572   Applicant：日本石油株式会社
• 感光材料組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-343296   Applicant：日本石油株式会社
• フラーレン誘導体および感光材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-202514   Applicant：日本石油株式会社
• フラーレン含有レジスト材料を用いたデバイス作製プロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-051493   Applicant：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
• パターン形成材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-037222   Applicant：工業技術院長
• 新規なフラーレン化合物及びその製造方法と使用方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-175933   Applicant：株式会社石川製作所, 三谷洋興