リソグラフィ投影装置の構成要素の表面を洗浄する方法、リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法および洗浄システム

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003425353
Publication number (International publication number)：2004207740
Application date： Dec. 22, 2003
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】リソグラフィ投影装置の構成要素の表面の洗浄システム、方法、リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法を提供する。【解決手段】リソグラフィ投影装置(1)において構成要素(101)の表面(104)の少なくとも一部から汚染(105)を除去するための洗浄システム(100)であって、前記表面の近傍に洗浄粒子を供給するための洗浄粒子供給器を具備し、この洗浄粒子供給器は、電界(107)を発生させるための電界発生器(106、V)を具備する。更に、リソグラフィ投影装置(1)の構成要素(101)の表面(104)の少なくとも一部から汚染(105)を除去するための方法。この方法は、リソグラフィ投影装置の少なくとも一部に電界を発生させるステップと、前記電界(107)によって汚染の近傍に洗浄粒子を供給するステップと、前記洗浄粒子と前記汚染との相互作用によって前記汚染を除去するステップと、を具備する。これによって、表面(104)から汚染(105)を除去する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

リソグラフィ投影装置において構成要素の表面の少なくとも一部から汚染を除去するための洗浄システムであって、前記表面の近傍に洗浄粒子を供給するための洗浄粒子供給器であって、電界を発生させるための電界発生器を具備する洗浄粒子供給器、を具備することを特徴とする、洗浄システム。

IPC (2)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (2)：

H01L21/30 531Z , G03F7/20 503

F-Term (5)：

2H097BA04 , 2H097BA10 , 2H097LA10 , 5F046GA14 , 5F046GA20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

特許第6192897号
露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-192455 Applicant：松下電器産業株式会社
X線露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-295457 Applicant：株式会社ニコン

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Cited by examiner (15)

特許第6192897号
特許第6192897号
露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-192455 Applicant：松下電器産業株式会社

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