金属用研磨液

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：富田和子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001371089
Publication number (International publication number)：2002222782
Application date： Aug. 31, 1999
Publication date： Aug. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】エッチング速度を十分に低下させ、高いCMP速度を維持し信頼性の高い埋め込みパターンを形成する。【解決手段】(1)金属の酸化剤と、(2)酸化金属溶解剤と、(3)アミノ酸やアゾール類といった、金属膜表面に物理的吸着及び/又は化学的結合を形成することにより保護膜を形成する第1の保護膜形成剤と、(4)ポリアクリル酸、ポリアミド酸又はその塩といった、第1の保護膜形成剤が保護膜を形成するのを補助する第2の保護膜形成剤と、(5)水とを含有する金属用研磨液。

Claim (excerpt)：

酸化剤、酸化金属溶解剤、第1の保護膜形成剤、第1の保護膜形成剤とは異なる第2の保護層形成剤及び水を含有する金属用研磨液。

IPC (4)：

H01L 21/304 622 , H01L 21/304 , B24B 37/00 , C09K 3/14 550

FI (4)：

H01L 21/304 622 C , H01L 21/304 622 X , B24B 37/00 H , C09K 3/14 550 Z

F-Term (6)：

3C058AA07 , 3C058CA01 , 3C058CB05 , 3C058DA02 , 3C058DA12 , 3C058DA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

銅系金属用研磨液および半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-263613 Applicant：株式会社東芝
研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-044316 Applicant：株式会社東芝
研磨剤および研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-055290 Applicant：株式会社東芝

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