露光装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋清
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001047822
Publication number (International publication number)：2002251016
Application date： Feb. 23, 2001
Publication date： Sep. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】高精度の露光を行える露光装置を提供する。【解決手段】フォトマスク用フィルム1と基板5の位置決めから露光するまでの間に、少なくとも2回フィルムマーク10と基板マーク50の位置関係を確認し、位置関係に基準以上の変化が生じていたら、フォトマスク用フィルム1とフレーム2のズレ発生と判断して警報を発する。

Claim (excerpt)：

露光すべきパターンを描いたフォトマスク用フィルムと、該フォトマスク用フィルムを支持するフレームとを備え、該フォトマスク用フィルムに描かれたパターンを対象物に投影して露光する露光装置において、前記露光前にフレームに支持されたフォトマスク用フィルムと対象物との位置関係を少なくとも2回検出する手段と、を備え、該検出された位置関係のズレにより前記フォトマスク用フィルムとフレームのズレの発生を識別する、ことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 501 , G03F 9/00 , H05K 3/00

FI (3)：

G03F 7/20 501 , G03F 9/00 Z , H05K 3/00 H

F-Term (7)：

2H097BA10 , 2H097GA45 , 2H097KA03 , 2H097KA20 , 2H097KA28 , 2H097KA40 , 2H097LA09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

プリント配線基板の露光方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-298087 Applicant：株式会社アドテックエンジニアリング, キヤノン・コンポーネンツ株式会社
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-231490 Applicant：株式会社アドテックエンジニアリング, キヤノン・コンポーネンツ株式会社
ワークとマスクの整合機構および整合方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-265033 Applicant：株式会社オーク製作所

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