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J-GLOBAL ID：200903017160801030

インプリント・リソグラフィ

Inventor： クラウス サイモン
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005367350
Publication number (International publication number)：2006203183
Application date： Dec. 21, 2005
Publication date： Aug. 03, 2006
Summary：

【課題】高解像度インプリントを可能にするリソグラフィ方法を提供する。【解決手段】インプリント可能媒体で実質的に覆われた基板40において、基板上のインプリント可能媒体から成る離隔した第一および第二ターゲット領域を、第一および第二テンプレート(41、42)にそれぞれ接触させて、平行かつ隣接して動かし、テンプレート41、42で定められたパターンをインプリント可能媒体にインプリントした後、第一および第二テンプレートをインプリント済み媒体から分離する。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

基板の離隔した第一および第二ターゲット領域にインプリント可能媒体を投与する段階と、 前記離隔した第一および第二ターゲット領域を第一および第二テンプレートにそれぞれ接触させて、前記インプリント可能媒体に第一および第二インプリントをそれぞれ形成する段階と、 前記第一および第二テンプレートをインプリントされた前記インプリント可能媒体から分離する段階と、 基板の離隔した第三および第四ターゲット領域にインプリント可能媒体を投与する段階と、 前記インプリント可能媒体の第一領域から第三領域に、第一方向で前記第一テンプレートを動かし、また、前記インプリント可能媒体の第二領域から第四領域に、第二方向で前記第二テンプレートを動かす段階と、 前記第三および第四ターゲット領域を前記第一および第二テンプレートにそれぞれ接触させて、前記インプリント可能媒体に第三および第四インプリントをそれぞれ形成する段階とを含むインプリント方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  B82B 3/00 ,  B29C 59/02

FI (3)：

H01L21/30 502D ,  B82B3/00 ,  B29C59/02 Z

F-Term (13)：

4F209AA13 ,  4F209AA21 ,  4F209AA33 ,  4F209AA43 ,  4F209AC05 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (20)

• 多重浮彫要素スタンプと選択的付加圧力を利用したUVナノインプリントリソグラフィ法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-569953   Applicant：コリア・インスティテュート・オブ・マシナリー・アンド・マテリアルズ
• 光学基板、その製造方法と製造装置、および光学装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-089807   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• スタンプから基板にパターンを転写する方法及び装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-506978   Applicant：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
• オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-105748   Applicant：フリードリッヒ・リュラオ
• 特開平2-128337
  
• 微細加工方法及び微細加工装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-190393   Applicant：キヤノン株式会社
• ステップ・アンド・リピート装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-112936   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開昭52-026171
  
• インプリント方法およびインプリント装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-279950   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための方法および装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-521609   Applicant：リュラオ,フリードリッヒ
• スタンパーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-044049   Applicant：株式会社ニコン
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-284931   Applicant：東レエンジニアリング株式会社
• 微細パターン形成方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-614090   Applicant：ミヌタ・テクノロジー・カンパニー・リミテッド
• 光透過性スタンパの製造方法及び光メモリ素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-326726   Applicant：三菱化学株式会社
• 流体圧力インプリント・リソグラフィ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-513006   Applicant：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
• インプリント・リソグラフィ・プロセスおよびシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-529089   Applicant：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
• 磁気記録媒体の製造方法、製造装置、インプリントスタンパ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-346898   Applicant：株式会社東芝
• 分離可能な独立駆動型モジュールを有するインプリンティング装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-554017   Applicant：コリア・インスティテュート・オブ・マシナリー・アンド・メタルズ
• 特許第6238852号
  
• 柔軟なナノインプリントスタンプ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2007-530583   Applicant：ニルテクノロジーエイピーエス

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• STEP AND REPEAT UV NANOIMPRINT LITHOGRAPHY TOOLS AND PROCESSES
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