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J-GLOBAL ID：200903054267586398

電界放射型電子源およびその製造方法

Inventor： 辰巳 夏生 ,  西林 良樹 ,  今井 貴浩
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (4)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  柴田 昌聰 ,  近藤 伊知良
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004142728
Publication number (International publication number)：2005310724
Application date： May. 12, 2004
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

【課題】 鋭い先端を有する高品質なダイヤモンドを陰極として、個々のエミッタを容易に制御でき、絶縁破壊や絶縁層の剥離を起こしにくく、リーク電流も少ない電界放射型電子源およびその製造方法を提供する。【解決手段】 電界放射型電子源2aは、ダイヤモンドを材料として含む突起形状の電子放出部1を有する陰極1aと、ゲート電極4と、陰極1aとゲート電極4とを隔てる絶縁層3と、アノード電極5とを備える。陰極1aと絶縁層3との間の少なくとも一部には、中間層6が設けられている。中間層6は複数の層6a,6bを有している。電子放出部1には、ホウ素、窒素、リン、イオウ、リチウム及びシリコンからなる群より選ばれる1種以上の元素が不純物としてドーピングされている。【選択図】 図21

Claim (excerpt)：

ダイヤモンドを材料として含む突起形状の電子放出部を有する陰極と、ゲート電極と、前記陰極と前記ゲート電極とを隔てる絶縁層と、アノード電極と、を備えた電界放射型電子源であって、 前記陰極と前記絶縁層との間の少なくとも一部に設けられた中間層を備え、 前記中間層は、IVa〜VIa族の遷移金属又はシリコンの炭化物からなる炭化物層、及びIVa〜VIa族の遷移金属、アルミニウム又はシリコンの窒化物からなる窒化物層のうち少なくとも一層を含み、 前記電子放出部には、ホウ素、窒素、リン、イオウ、リチウム及びシリコンからなる群より選ばれる1種以上の元素が不純物としてドーピングされていることを特徴とする電界放射型電子源。

IPC (2)：

H01J1/304 ,  H01J9/02

FI (2)：

H01J1/30 F ,  H01J9/02 B

F-Term (50)：

5C127AA01 ,  5C127AA04 ,  5C127AA05 ,  5C127AA06 ,  5C127AA07 ,  5C127BA02 ,  5C127BB03 ,  5C127BB06 ,  5C127BB15 ,  5C127BB16 ,  5C127BB18 ,  5C127BB20 ,  5C127CC04 ,  5C127CC05 ,  5C127CC08 ,  5C127CC09 ,  5C127CC10 ,  5C127CC53 ,  5C127CC62 ,  5C127CC68 ,  5C127DD07 ,  5C127DD09 ,  5C127DD33 ,  5C127DD34 ,  5C127DD42 ,  5C127DD56 ,  5C127DD57 ,  5C127EE12 ,  5C127EE16 ,  5C135AA02 ,  5C135AB03 ,  5C135AB06 ,  5C135AB15 ,  5C135AB16 ,  5C135AB18 ,  5C135AB20 ,  5C135AC03 ,  5C135AC12 ,  5C135AC19 ,  5C135AC22 ,  5C135AC25 ,  5C135AC26 ,  5C135AC29 ,  5C135FF18 ,  5C135FF19 ,  5C135GG12 ,  5C135GG13 ,  5C135GG16 ,  5C135HH12 ,  5C135HH16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開WO98/44529号公報
  
• フィールドエミッタアレイの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-057764   Applicant：出光マテリアル株式会社

Cited by examiner (9)

• ダイヤモンド被覆材料およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-142100   Applicant：住友電気工業株式会社
• 特開平2-267284
  
• 特開昭61-015972
  
• 電界放出冷陰極素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-310508   Applicant：日本電気株式会社
• 電子デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-238571   Applicant：住友電気工業株式会社
• 特開平3-225721
  
• 冷陰極およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-253569   Applicant：三菱電機株式会社
• 電子放出素子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-156788   Applicant：凸版印刷株式会社
• 真空管用陰極
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-280893   Applicant：トヨタ自動車株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Processing and characterization of alumina thin films on chemically vapor deposited diamond substrat