Pat
J-GLOBAL ID：200903055574964878

リソク ゙ラフィシステム

Inventor：
白田 陽介

About 白田 陽介


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997103814
Publication number (International publication number)：1998284405
Application date： Apr. 07, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：
【要約】【課題】 露光装置とこれに接続された基板の処理装置の装置内環境条件が相互に及ぼす影響を殆どなくすことができるインラインのリソグラフィシステムを提供する。【解決手段】 露光装置本体22を収容するチャンバ24内と、コータ・デベロッパ本体42を収容するチャンバ44内にそれぞれ環境センサ60,62が配置されている。リソグラフィ工程中は、この両方の環境センサ60,62で計測された気圧、温度、湿度等の計測値に基づいて環境制御部64が各チャンバ24,44の環境条件がほぼ一致するように空気調節部28,46を制御する。これにより、接続部50を介してウエハWの受渡しを行っても、両チャンバ24,44内の環境条件が互いに及ぼす影響が殆どなくなる。
Claim (excerpt)：
レジストが塗布された基板上にパターンを露光する露光装置とこの露光装置に接続された前記基板の処理装置とを備えたリソグラフィシステムであって、前記露光装置及び前記処理装置の少なくとも一方の環境を計測する環境センサと;前記環境センサの計測値に基づいて前記露光装置内の環境と前記処理装置内の環境とがほぼ同じになるように前記露光装置内及び前記処理装置内の少なくとも一方の環境を制御する制御装置とを有するリソグラフィシステム。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (6)：
H01L 21/30 502 H ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 564 ,  H01L 21/30 569 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM