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J-GLOBAL ID:200903055811361369

導電性基板及びその製造方法、並びに銅配線基板及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008062953
Publication number (International publication number):2009218167
Application date: Mar. 12, 2008
Publication date: Sep. 24, 2009
Summary:
【課題】銅粒子による導体層を有する導電性基板でありながら、銅粒子の表面処理剤を要せず、比較的低温にて銅粒子の焼結が可能で、基板の耐熱性の制約が少ない導電性基板の製造方法を提供する。【解決手段】コア部が銅であり、シェル部が酸化銅であるコア/シェル構造を有する粒子、又は酸化銅からなる粒子を含む塗布乾燥膜が成膜された基板を還元性液体に浸漬し、前記塗布乾燥膜中に含まれる各粒子の酸化銅を銅に還元する工程と、前記還元性液体を加熱して、還元されて得られた銅粒子同士を焼結する工程と、を含むことを特徴とする導電性基板の製造方法である。【選択図】なし
Claim (excerpt):
コア部が銅であり、シェル部が酸化銅であるコア/シェル構造を有する粒子を含む塗布乾燥膜が成膜された基板を還元性液体に浸漬し、前記塗布乾燥膜中に含まれる各粒子の酸化銅を銅に還元する工程と、 前記還元性液体を加熱して、還元されて得られた銅粒子同士を焼結する工程と、 を含むことを特徴とする導電性基板の製造方法。
IPC (4):
H01B 13/00 ,  H05K 3/10 ,  H05K 3/12 ,  H01B 1/00
FI (5):
H01B13/00 503B ,  H01B13/00 503D ,  H05K3/10 D ,  H05K3/12 610D ,  H01B1/00 D
F-Term (10):
5E343AA02 ,  5E343BB24 ,  5E343BB72 ,  5E343DD03 ,  5E343DD12 ,  5E343ER07 ,  5E343ER35 ,  5E343GG16 ,  5G323CA03 ,  5G323CA05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (5)
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