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J-GLOBAL ID:200903055946691199
窒化ガリウム系化合物半導体素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001257306
Publication number (International publication number):2003069075
Application date: Aug. 28, 2001
Publication date: Mar. 07, 2003
Summary:
【要約】【目的】 窒化ガリウム系化合物半導体内部の光の多重反射により起こる干渉を抑えることにより、窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の外部量子効率を向上させる。【構成】 サファイア基板上に窒化ガリウム系化合物半導体を成長させ、サファイア基板を研磨又は剥離除去し、窒化ガリウム系化合物半導体の裏面がエッチングにより非鏡面とされている窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。サファイア基板を除去することにより、サファイアと窒化ガリウムの屈折率の違いよる界面での干渉が無くなり、かつ、非鏡面にすることによって表面で乱反射させることでダブルの効果で出力を向上させる。
Claim (excerpt):
窒化ガリウム系化合物半導体基板上に窒化ガリウム系化合物半導体が積層されてなる発光素子において、前記窒化ガリウム系化合物半導体基板の素子を積層する面に対向する面が凹凸を有することを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体素子。
IPC (2):
FI (2):
H01L 33/00 C
, H01L 21/306 B
F-Term (12):
5F041AA03
, 5F041CA05
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA64
, 5F041CA65
, 5F041CA74
, 5F043AA05
, 5F043BB10
, 5F043DD12
, 5F043DD16
, 5F043GG10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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III-N系化合物半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-266479
Applicant:シャープ株式会社
-
3族窒化物半導体基板及び素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-150270
Applicant:豊田合成株式会社, 株式会社豊田中央研究所
-
半導体発光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-047694
Applicant:大同特殊鋼株式会社
-
特開昭59-023579
-
半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-143478
Applicant:株式会社リコー
-
窒化物系半導体素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-192722
Applicant:三洋電機株式会社
-
窒化物系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-168910
Applicant:シャープ株式会社
-
単結晶GaNの結晶成長方法及び単結晶GaN基板の製造方法と単結晶GaN基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-273882
Applicant:住友電気工業株式会社
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