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J-GLOBAL ID：200903058868467766

排ガス処理装置

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
中條 数美

About 中條 数美

, 
岩田 耕治

About 岩田 耕治

, 
今津 史郎

About 今津 史郎


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (3)： 山崎 宏 ,  田中 光雄 ,  仲倉 幸典
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008008916
Publication number (International publication number)：2009165992
Application date： Jan. 18, 2008
Publication date： Jul. 30, 2009
Summary：
【課題】排ガス中の揮発性有機化合物を少ないエネルギーで効率的に分解できると共にイニシャルコストおよびランニングコストを低減できる排ガス処理装置を提供する。【解決手段】この排ガス処理装置は、スクラバー部2によって排ガス中の揮発性有機化合物を洗浄水に吸収,移行させて上記排ガスから取り除く。そして、上記洗浄水は溶存酸素調整部22で溶存酸素濃度が高められると共にナノバブルを含有する洗浄水として、活性炭吸着塔44に導入される。活性炭吸着塔44ではナノバブルで活性化した好気性微生物により上記揮発性有機化合物を分解処理できる。また、活性炭吸着塔44の後段の溶存酸素等測定部51で洗浄水の溶存酸素濃度を計測し溶存酸素調節計55は上記洗浄水の溶存酸素濃度が最低で2ppm以上になるようにブロワー56の運転を制御する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
揮発性有機化合物を含有する排ガスを洗浄水に接触させて、上記排ガス中の揮発性有機化合物を上記洗浄水に吸収,移行させるスクラバー部と、 上記スクラバー部から導入される洗浄水に酸素を溶存させると共にナノバブルを含有させる溶存酸素調整部と、 上記溶存酸素調整部から上記ナノバブルを含有した洗浄水が導入されると共にこの洗浄水が含有する揮発性有機化合物をナノバブルで活性化した好気性微生物で分解処理し、この分解処理した洗浄水を上記スクラバー部に返送する活性炭吸着塔と、 上記活性炭吸着塔で処理された洗浄水が導入されると共にこの洗浄水の溶存酸素濃度または全有機炭素濃度の少なくとも一方を測定する測定部と、 上記測定部が測定した上記洗浄水の溶存酸素濃度または全有機炭素濃度の少なくとも一方に基づいて、上記溶存酸素調整部の運転を制御する制御部と を備えることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (7)：
B01D 53/44 ,  B01D 53/77 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/08 ,  B01F 3/04 ,  B01F 1/00 ,  B01D 36/00
FI (7)：
B01D53/34 117D ,  C02F1/28 F ,  C02F3/08 B ,  B01F3/04 A ,  B01F1/00 A ,  B01D36/00 ,  B01F3/04 Z
F-Term (50)：
4D002AA33 ,  4D002AA40 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002CA01 ,  4D002CA13 ,  4D002DA35 ,  4D002DA54 ,  4D002DA70 ,  4D002EA06 ,  4D002EA07 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB08 ,  4D002GB20 ,  4D003AA14 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003DA01 ,  4D003DA07 ,  4D003EA01 ,  4D003EA25 ,  4D003FA04 ,  4D003FA05 ,  4D003FA06 ,  4D066AB03 ,  4D066AB10 ,  4D066BB00 ,  4D066FA02 ,  4D624AA04 ,  4D624AB04 ,  4D624BA02 ,  4D624BB01 ,  4D624BC05 ,  4D624CA02 ,  4D624DA03 ,  4D624DA04 ,  4D624DA07 ,  4D624DB03 ,  4D624DB15 ,  4D624DB24 ,  4G035AA01 ,  4G035AB04 ,  4G035AB05 ,  4G035AB07 ,  4G035AC01 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-288963   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-121082   Applicant：日立エンジニアリング株式会社
Cited by examiner (7)
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