検査装置および検査方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：古谷史旺 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999012726
Publication number (International publication number)：2000215843
Application date： Jan. 21, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】ステージの移動方向が如何なる方向であっても、その移動方向に沿って配列された複数の検査領域から連続的に試料の画像情報を取り込むことができる検査装置および検査方法を提供する。【解決手段】可動ステージ27上の試料28に照射した電子ビームにより、試料28から発生する二次ビームを、所定面に結像させる電子光学系20を有し、該電子光学系20の視野内に位置する試料28からの二次ビームの像を所定面に投影する投影手段22と、電子ビームと二次ビームとの少なくとも一方の軌道を偏向する偏向手段26,36と、所定面に投影された前記像を撮像するイメージセンサ41を有し、該イメージセンサ41からの出力信号に基づいて対応する画像情報を取り込む画像取込手段37と、試料28の移動と偏向手段26,36による軌道の偏向とを同期させて制御する制御手段43とを備えたものである。

Claim (excerpt)：

試料が載置され、移動可能なステージと、前記試料に電子ビームを照射する照射手段と、前記電子ビームの照射によって前記試料から発生する二次ビームを、所定面に結像させる電子光学系を有し、該電子光学系の視野内に位置する試料からの前記二次ビームの像を前記所定面に投影する投影手段と、前記電子ビームと前記二次ビームとの少なくとも一方の軌道を偏向する偏向手段と、前記所定面に投影された前記像を撮像するイメージセンサを有し、該イメージセンサからの出力信号に基づいて対応する画像情報を取り込む画像取込手段と、前記ステージの移動に伴う前記試料の移動と前記偏向手段による前記軌道の偏向とを同期させて制御する制御手段とを備えたことを特徴とする検査装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-101132 Applicant：株式会社ホロン
パターン検査装置および走査型電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-232566 Applicant：株式会社ニコン
ウェーハパターンの欠陥検出方法及び同装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-041346 Applicant：株式会社東芝

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