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J-GLOBAL ID:200903059562558071
半導体発光素子および発光装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
小谷 悦司
, 植木 久一
, 伊藤 孝夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003181768
Publication number (International publication number):2005019653
Application date: Jun. 25, 2003
Publication date: Jan. 20, 2005
Summary:
【課題】光取り出し効率を高める。【解決手段】発光波長(青色)に対して透明性を有する窒化ガリウムを材料とする導電性基板1が、光取り出し面側に配置される。導電性基板1の上に発光層3を含む半導体膜10が形成される。導電性基板1の主面には後退部6が選択的に形成され、n電極7は後退部6を充填するように設けられている。導電性基板1がある程度の厚さを有し、かつn電極7が後退部6の側壁を通じて導電性基板1に接続されるために、電流が導電性基板1の全体に広がり易く、発光層3の全体に効率よく電流が供給される。より好ましくは、導電性基板1の側面に、後退部6およびこれを充填するn電極7の左半分または右半分に相当する部分が形成される。この場合、導電性基板1の側面に露出するn電極7の側面を通じて、外部との電気的接続が達成される。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
発光波長に対して透明性を有し一方主面に選択的に後退部が形成された導電性基板と、
前記導電性基板の他方主面の上に形成され発光層を有する半導体膜と、
前記後退部に充填された第1電極と、
前記半導体膜の前記導電性基板とは反対側主面に形成された第2電極と、を備える半導体発光素子。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (8):
5F041AA03
, 5F041CA40
, 5F041CA74
, 5F041CA75
, 5F041CA83
, 5F041CA88
, 5F041CA93
, 5F041CA98
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-179591
Applicant:東芝電子エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
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半導体レーザの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-052943
Applicant:住友電気工業株式会社
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特開昭61-296779
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発光ダイオード及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-050631
Applicant:株式会社ジャパンエナジー
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-040271
Applicant:松下電工株式会社
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半導体発光ダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-019064
Applicant:株式会社東芝
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窒化物系半導体発光素子とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-374240
Applicant:シャープ株式会社
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複合発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-027451
Applicant:松下電器産業株式会社
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