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J-GLOBAL ID：200903060033000217

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

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白川 浩司

About 白川 浩司

, 
青合 利明

About 青合 利明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999211368
Publication number (International publication number)：2001042533
Application date： Jul. 26, 1999
Publication date： Feb. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決されたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、具体的には、基板面内の塗布均一性、レジスト液の保存安定性が優れた遠紫外線用露光用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の脂環式炭化水素構造を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される溶剤を少なくとも一つを含有する溶剤、を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(イ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに(ロ)下記一般式(I)及び(II)で表される脂環式炭化水素構造を含む基の群から選択される基を少なくとも1つ含み、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、並びに(ハ)(1)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される溶剤を少なくとも一つを含有する溶剤、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I)及び(II)中;R1は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、ZAは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R2〜R3は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、ZBは、2価もしくは3価の脂環式炭化水素基を表す。a、bは各々独立に1または2を表す。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (13)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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