感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005021344
Publication number (International publication number)：2006208781
Application date： Jan. 28, 2005
Publication date： Aug. 10, 2006
Summary：

【課題】露光ラチチュード、疎密依存性、ラインエッジラフネスが改善され、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、パターン形成方法及び特定の有機酸を提供する。【解決手段】プロトンアクセプター性官能基を有し、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸基を生成し、そのアクセプター性が低下若しくは消失、又はプロトンアクセプター性官能基が酸性に変化する化合物、或いは活性光線又は放射線の照射により、一般式(I)で示される特定の有機酸を発生する化合物を含有する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

プロトンアクセプター性官能基を有し、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸基を生成し、そのアクセプター性が低下若しくは消失、又はプロトンアクセプター官能基が酸性に変化する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 , C07C 309/14 , C07C 309/65 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F7/004 503A , C07C309/14 , C07C309/65 , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

F-Term (14)：

2H025AA01 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC17 , 4H006AA03 , 4H006AB76

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-321128 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-343029 Applicant：富士写真フイルム株式会社
フルオロカーボンアニオンを有するエネルギー活性塩
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-526859 Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー

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Cited by examiner (6)

フォトレジストのためのパーフルオロアルキルスルフォン酸化合物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-579891 Applicant：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-132546 Applicant：富士写真フイルム株式会社
エネルギー感受性レジスト材およびエネルギー感受性レジスト材を使用するデバイスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-280394 Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレーテッド

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