フォトレジストのためのパーフルオロアルキルスルフォン酸化合物

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：高木千嘉 , 西村公佑 , 杉本博司
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002579891
Publication number (International publication number)：2004519520
Application date： Apr. 05, 2002
Publication date： Jul. 02, 2004
Summary：

一般構造:R-O(CF2)nSO3X(式中、nは約1〜4の整数であり;Rは置換されたもしくは非置換のC1〜C12の線状もしくは分枝状のアルキルまたはアルケニル、置換されたまたは非置換のアルアルキル、置換されたまたは非置換のアリール、置換されたまたは非置換のビシクロアルキル、置換されたまたは非置換のトリシクロアルキル、水素、アルキルスルホン酸、置換されたまたは非置換のパーフルオロアルキル、pが約1〜4であり、mが約0〜3でありまたqが約1〜4である場合の一般構造F((CF2)pO)m(CF2)q-、および置換されたまたは非置換の部分的にフッ素化されたアルキル、ハロフルオロアルキル、パーフルオロアルキルスルホニック、またはグリシジルからなる群から選択され;そしてXは有機陽イオンおよび共有結合した有機基からなる群から選択される)を有するフォトアシッド化合物。

Claim (excerpt)：

一般構造 R-O(CF2)nSO3X (式中、nは約1〜4の整数であり、Rは置換されたもしくは非置換のC1〜C12の線状もしくは分枝状のアルキルまたはアルケニル、置換されたまたは非置換のアルアルキル、置換されたまたは非置換のアリール、置換されたまたは非置換のビシクロアルキル、置換されたまたは非置換のトリシクロアルキル、水素、アルキルスルホン酸、置換されたまたは非置換のパーフルオロアルキル、pが約1〜4であり、mが約0〜3でありまたqが約1〜4である場合の一般構造F((CF2)pO)m(CF2)q-、および置換されたまたは非置換の部分的にフッ素化されたアルキル、ハロフルオロアルキル、パーフルオロアルキルスルホニック、またはグリシジルからなる群から選択され、そしてXは有機陽イオンおよび共有結合した有機基からなる群から選択される) を有するフォトアシッド化合物。

IPC (7)：

C07C309/10 , C07C321/28 , C07C323/20 , C07D207/40 , C07D209/94 , C07D333/46 , G03F7/004

FI (7)：

C07C309/10 , C07C321/28 , C07C323/20 , C07D207/40 , C07D209/94 , C07D333/46 , G03F7/004 503A

F-Term (23)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4C069AC30 , 4C069BB05 , 4C069BB08 , 4C069BC10 , 4C069BC12 , 4C204BB05 , 4C204CB23 , 4C204DB16 , 4C204EB03 , 4C204FB33 , 4C204GB01 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB76

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-157367 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-069053 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-321128 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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