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J-GLOBAL ID:200903060985779625
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大島 正孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996129729
Publication number (International publication number):1997311452
Application date: May. 24, 1996
Publication date: Dec. 02, 1997
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 各種放射線に有効に感応し、解像度、パターン形状、PED安定性等が良好で、化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記式(1)、(2)および(3)で表される単位からなる共重合体、感放射線性酸発生剤および酸拡散制御剤を含有する組成物。ここで、R1は水素原子またはメチル基を示す、ここで、R2は水素原子あるいはメチル基、R3およびR4は互いに独立に水素原子または炭素数1〜5のアルキル基、R5は炭素数1〜6のアルキレン基または炭素数2〜4のアルキリデン基、R6は炭素数1〜10の鎖状アルキル基等、を示し、nは0〜4の数である、ここで、R7は水素原子またはメチル基を示す、
Claim (excerpt):
(A)下記式(1)、(2)および(3)で表される繰り返し単位を含有する共重合体、【化1】ここで、R1は水素原子またはメチル基を示す、【化2】ここで、R2は水素原子あるいはメチル基を示し、R3およびR4は互いに独立に水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を示し、R5は炭素数1〜6のアルキレン基または炭素数2〜4のアルキリデン基を示し、R6は炭素数1〜10の鎖状アルキル基、炭素数3〜10の環状アルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜11のアラルキル基または炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基を示し、nは0〜4の数である、【化3】ここで、R7は水素原子またはメチル基を示す、(B)感放射線性酸発生剤、および(C)酸拡散制御剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-049097
Applicant:和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-104590
Applicant:信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-268112
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-266776
Applicant:信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-259755
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-312669
Applicant:日本ゼオン株式会社
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