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J-GLOBAL ID:200903061626239077
溶液の製造方法、重合体溶液およびレジスト組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006214848
Publication number (International publication number):2008038035
Application date: Aug. 07, 2006
Publication date: Feb. 21, 2008
Summary:
【課題】溶液を濃縮する工程を経て目標の濃度の溶液を製造する方法において、目標の濃度の溶液を確実に得ることができる溶液の製造方法、目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体溶液、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させることができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】溶液を濃縮する工程を経て目標とする濃度の溶液を製造する方法において、溶液を目標の濃度よりも高い濃度まで濃縮して過剰濃縮液とし、過剰濃縮液の濃度を測定し、過剰濃縮液を目標の濃度の溶液とするために必要な希釈溶媒の添加量を求め、該添加量の希釈溶媒を過剰濃縮液に加え、目標の濃度の溶液を得る。【選択図】図1
Claim (excerpt):
溶液を濃縮する工程を経て目標の濃度の溶液を製造する方法において、
溶液を目標の濃度よりも高い濃度まで濃縮して過剰濃縮液とし、
過剰濃縮液の濃度を測定し、過剰濃縮液を目標の濃度の溶液とするために必要な希釈溶媒の添加量を求め、
該添加量の希釈溶媒を過剰濃縮液に加え、目標の濃度の溶液を得ることを特徴とする溶液の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (23):
2H096BA11
, 2H096LA30
, 4F070AA07
, 4F070AA08
, 4F070AA12
, 4F070AA18
, 4F070AA22
, 4F070AA23
, 4F070AA25
, 4F070AA32
, 4F070AA46
, 4F070AA47
, 4F070AB17
, 4F070AB22
, 4F070AC32
, 4F070AC36
, 4F070AC38
, 4F070AC39
, 4F070AC43
, 4F070AC64
, 4F070AE28
, 4F070CA20
, 4F070CB11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-130131
Applicant:富士通株式会社
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-012406
Applicant:住友化学工業株式会社
-
国際公開第03/082933号パンフレット
Cited by examiner (5)
-
低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-324949
Applicant:旭硝子株式会社
-
水和物スラリ生成薬剤の供給方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-158050
Applicant:日本鋼管株式会社
-
フォトレジスト用高分子化合物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-011035
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
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