化学気相成長用原料及び薄膜の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：羽鳥修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004155543
Publication number (International publication number)：2005340405
Application date： May. 26, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】高分解性の金属化合物をプレカーサに用いたCVD用原料であり、薄膜のパーティクル汚染を低減できるものを提供すること。【解決手段】金属化合物からなるプレカーサを含有してなり、液相での光散乱式液中粒子検出器によるパーティクル測定における0.5μmより大きい粒子の数が1ml中100個以下である化学気相成長用原料。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

金属化合物からなるプレカーサを含有してなり、液相での光散乱式液中粒子検出器によるパーティクル測定における0.5μmより大きい粒子の数が1ml中100個以下である化学気相成長用原料。

IPC (2)：

H01L21/316 , C23C16/40

FI (2)：

H01L21/316 X , C23C16/40

F-Term (12)：

4K030AA11 , 4K030BA01 , 4K030BA42 , 4K030EA01 , 4K030FA10 , 4K030LA15 , 5F058BA20 , 5F058BC03 , 5F058BF06 , 5F058BF27 , 5F058BF29 , 5F058BH01

Patent cited by the Patent：

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液体原料を用いた表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-119130 Applicant：アネルバ株式会社
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