Pat
J-GLOBAL ID：200903061989737257

新規チオール化合物、共重合体及び共重合体の製造方法

Inventor：
山岸 孝則

About 山岸 孝則

, 
三田 孝仁

About 三田 孝仁


Applicant, Patent owner：
丸善石油化学株式会社

About 丸善石油化学株式会社


Agent (1)： 小林 雅人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004013879
Publication number (International publication number)：2004292428
Application date： Jan. 22, 2004
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：
【課題】 従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。【解決手段】 本発明の新規チオール化合物は、式(1) 【化1】(式中、R1は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素からなる2価の置換基を表す。)で表されることを特徴とするものである。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
式(1)
IPC (3)：
C07C323/12 ,  C07C323/17 ,  C08F2/38
FI (3)：
C07C323/12 ,  C07C323/17 ,  C08F2/38
F-Term (10)：
4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4H006TA04 ,  4H006TB31 ,  4J011AA05 ,  4J011CA02 ,  4J011CA08 ,  4J011CC04 ,  4J011NA25 ,  4J011NB04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (14)
Show all
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM