電子線照射用パターン形成材料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：工業技術院産業技術融合領域研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998243295
Publication number (International publication number)：1999125904
Application date： Jan. 31, 1996
Publication date： May. 11, 1999
Summary：

【要約】【課題】電子線を用いたリソグラフイー法により、高解像度で、かつナノメーター・オーダーのアスペクト比の高い微細加工が可能な新規な電子線照射用パターン形成材料を提供すること。【解決手段】基板上にフラーレンからなる薄膜層を設けた電子線照射用パターン形成材料。

Claim (excerpt)：

基板上にフラーレンからなる薄膜層を設けた電子線照射用パターン形成材料。

IPC (2)：

G03F 7/038 505 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/038 505 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

フラーレン含有レジスト材料を用いたデバイス作製プロセス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-051493 Applicant：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
フラーレン誘導体および感光材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-202514 Applicant：日本石油株式会社
感光材料組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-343296 Applicant：日本石油株式会社

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