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J-GLOBAL ID:200903064389588176
大気圧プラズマジェット
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
風早 信昭
, 浅野 典子
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007553419
Publication number (International publication number):2008529243
Application date: Feb. 06, 2006
Publication date: Jul. 31, 2008
Summary:
本発明は物品のプラズマ処理を実施するためのプラズマジェット装置に関し、(a)細長い中心電極(2,15)、(b)前記中心電極を取り囲みかつ前記中心電極と共軸である細長い円筒状外部電極(1)または二つの外部電極(15,16)、または中心電極に実質的に平行な二つの電極、(c)前記外部電極(単数または複数)と前記中心電極の間に配置された電気絶縁体(3)または絶縁体(18,19)、ここで遠位端と近位端を持つ放電内腔が前記中心電極と前記電気絶縁体(単数または複数)の間に規定される、(d)前記放電内腔の前記遠位端に配置されたプラズマ生成ガスを前記放電内腔に供給するための供給開口(6)、(e)前記中心電極と前記外部電極の間に電圧を与えるための電源(9)、を含み、前記電気絶縁体が前記近位端で前記外部電極(単数または複数)の外表面を越えて半径方向または外向き延長部(40,20)を持つことを特徴とする。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
物品のプラズマ処理を実施するためのプラズマジェット装置であって、
- 細長い中心電極(2)、
- 前記中心電極を取り囲みかつ前記中心電極と共軸である細長い円筒状外部電極(1)、
- 前記外部電極と前記中心電極の間に共軸に配置された電気絶縁体(3)であって、遠位端と近位端を持つ放電内腔が前記中心電極と前記電気絶縁体の間に規定される電気絶縁体(3)、
- 前記放電内腔にプラズマ生成ガスを供給するために、前記放電内腔の前記遠位端に配置された供給開口(6)、
- 前記中心電極と前記外部電極の間に電圧を与えるための電源(9)、
を含むものにおいて、
前記電気絶縁体が前記近位端で前記外部電極の外表面を越えて半径方向に置かれたリング(20)の形で延びることを特徴とするプラズマジェット装置。
IPC (2):
FI (3):
H05H1/24
, C08J7/00 306
, C08J7/00
F-Term (7):
4F073BA04
, 4F073BA07
, 4F073BA08
, 4F073BA13
, 4F073CA04
, 4F073CA07
, 4F073FA00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-344735
Applicant:松下電工株式会社
-
プラズマ発生装置およびその動作方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-014887
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
放電プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-298026
Applicant:積水化学工業株式会社
-
被膜形成装置および被膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-190030
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-229402
Applicant:株式会社日本セラテック, 高松利行
-
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-109253
Applicant:松下電工株式会社
-
プラズマCVD方法及びプラズマCVD装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-197780
Applicant:積水化学工業株式会社
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