Pat
J-GLOBAL ID：200903066639256614

X線またはEUV放射線発生方法および装置

Inventor：
ハンス、ヘルツ

About ハンス、ヘルツ

, 
オスカー、ヘムベルイ

About オスカー、ヘムベルイ


Applicant, Patent owner：
ジェテック、アクチボラグ

About ジェテック、アクチボラグ


Agent (5)： 吉武 賢次 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002515466
Publication number (International publication number)：2004505421
Application date： Jul. 18, 2001
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：
X線またはEUV放射線発生方法及び装置において、伝播されるターゲットジェットとの間で相互に作用するために、具体的には真空チャンバ内に電子ビームがもたらされる。ターゲットジェットは、排気口の開口部を介して所定の圧力の下で液体状の薬物を強制的に排出させることにより形成される。硬X線放射は、本質的にはプラズマ形成温度にまでジェットを加熱することなく、電子ビームエネルギーをブレムシュトラールング(Bremsstrahlung)および特性直線放射にまで変換することにより生成されても良い。軟X線またはEUV放射線は、ジェットをプラズマ形成温度にまで加熱する電子ビームにより生成されても良い。
Claim (excerpt)：
X線またはEUV放射線を生成するための方法であって、 圧力下で液体の物質を吐出口の開口部を介して吐出させることにより、相互作用の領域(9)を介して強くするターゲットジェット(5)を形成するステップと; 前記相互作用の領域(9)における前記ターゲットジェット(5)に対して少なくとも1つの電子ビーム(4)を方向付けて、この電子ビーム(4)がX線またはEUV放射線を生成するために前記ターゲットジェット(5)と相互に作用するステップと; を備えるX線またはEUV放射線発生方法。
IPC (7)：
H05G2/00 ,  G03F7/20 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08 ,  G21K7/00 ,  H01L21/027
FI (8)：
H05G1/00 J ,  G03F7/20 503 ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  G21K5/08 X ,  G21K7/00 ,  H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K
F-Term (13)：
2H097CA01 ,  2H097CA15 ,  2H097GB00 ,  4C092AA07 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AB10 ,  4C092AB21 ,  4C092AB27 ,  4C092AC01 ,  4C092AC09 ,  4C092AC20 ,  5F046GC01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM