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J-GLOBAL ID:200903066869540516
露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
立石 篤司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001257622
Publication number (International publication number):2003068620
Application date: Aug. 28, 2001
Publication date: Mar. 07, 2003
Summary:
【要約】【課題】 装置を大型化させることなく、レチクル交換を円滑に行う。【解決手段】 走査方向に移動可能なステージRST上に載置されたレチクルRの搬出、及びステージ上へのレチクルの搬入が、ステージの移動面60aに平行な面内で走査方向に直交する方向の一側に配置されたレチクル交換ロボット32により、走査方向に交差する方向から行われる。このため、例えばステージの移動範囲内の走査方向の横側に空きスペースが存在する場合には、そのスペースにレチクル交換ロボットを配置することで、露光装置の大型化を招くことなく、レチクル交換を円滑に行うことができる。また、レチクル交換のために、ステージを露光位置から交換位置に移動させる際には、ステージ上に走査方向に沿って載置可能なレチクルの枚数にかかわらず、その走査方向の移動距離を短くすることができるので、この点からも装置の大型化は抑制される。
Claim (excerpt):
マスクに形成されたパターンを基板上に転写する露光装置であって、前記マスクが載置されるとともに少なくとも第1軸方向に移動可能なマスクステージと;前記第1軸を含む前記マスクステージの移動面に平行な面内で前記第1軸に直交する方向の一側に配置され、前記マスクステージ上のマスクの搬出及び前記マスクステージ上へのマスクの搬入を前記移動面に平行な面内の前記第1軸方向に交差する方向から行うマスク搬送装置と;を備える露光装置。
IPC (5):
H01L 21/027
, B65G 49/06
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
, H01L 21/68
FI (8):
B65G 49/06 A
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/68 A
, H01L 21/68 B
, H01L 21/68 G
, H01L 21/68 K
, H01L 21/30 514 D
F-Term (56):
5F031CA05
, 5F031CA07
, 5F031DA01
, 5F031DA17
, 5F031FA04
, 5F031FA07
, 5F031FA09
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA14
, 5F031FA15
, 5F031GA03
, 5F031GA08
, 5F031GA15
, 5F031GA25
, 5F031GA35
, 5F031GA40
, 5F031GA43
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031GA50
, 5F031HA13
, 5F031HA16
, 5F031HA33
, 5F031HA42
, 5F031HA53
, 5F031HA55
, 5F031HA59
, 5F031JA06
, 5F031JA14
, 5F031JA17
, 5F031JA22
, 5F031JA32
, 5F031JA38
, 5F031KA02
, 5F031KA06
, 5F031KA07
, 5F031KA08
, 5F031KA11
, 5F031KA12
, 5F031LA07
, 5F031LA08
, 5F031MA27
, 5F046AA23
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC03
, 5F046CC09
, 5F046CC13
, 5F046CD02
, 5F046CD04
, 5F046CD06
, 5F046DA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
-
露光装置及び露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-363337
Applicant:日本電気株式会社
-
投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-098029
Applicant:株式会社ニコン
-
レチクルローダ機構
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-279060
Applicant:九州日本電気株式会社
-
マスクの受け渡し方法、及び該方法を使用する露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-111786
Applicant:株式会社ニコン
-
基板位置補正装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-195853
Applicant:株式会社ニコン
-
基板搬送方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-073287
Applicant:株式会社ニコン
-
搬送方法及び搬送装置、並びに露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-117460
Applicant:株式会社仙台ニコン, 株式会社ニコン
-
露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-257364
Applicant:キヤノン株式会社
-
基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-256565
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
真空室用搬送装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-310057
Applicant:東京エレクトロン株式会社
-
レチクル交換方法及び装置、並びに露光方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-021443
Applicant:株式会社ニコン
-
基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-047639
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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