光源装置及びそれを用いた露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宇都宮正明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001183025
Publication number (International publication number)：2003008124
Application date： Jun. 18, 2001
Publication date： Jan. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】高能率であり、かつ、デブリの発生を抑制することができる光源装置を提供する。【解決手段】ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、ターゲットとして、レーザビームが照射される時点において、又はレーザビームが照射された直後においてガス状態である物質を供給するターゲット供給部113、119と、レーザ媒質として二酸化炭素ガスを含む混合ガスを使用し、波長10μm帯のレーザ光を発生させ、ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部111、112と、プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系115とを具備する。

Claim (excerpt)：

ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、前記ターゲットとして、レーザビームが照射される時点において、又はレーザビームが照射された直後においてガス状態となる物質を供給するターゲット供給部と、レーザ媒質として二酸化炭素ガスを含む混合ガスを使用し、波長10μm帯のレーザ光を発生させ、前記ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、前記プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系と、を具備する光源装置。

IPC (3)：

H01S 4/00 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (3)：

H01S 4/00 , G03F 7/20 505 , H01L 21/30 531 S

F-Term (11)：

2H097CA17 , 2H097GB00 , 2H097LA10 , 5F046GA03 , 5F046GA06 , 5F046GB01 , 5F046GC03 , 5F072KK05 , 5F072PP10 , 5F072RR05 , 5F072YY09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-024731 Applicant：株式会社日立製作所
レ-ザ-プラズマX線源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-376352 Applicant：工業技術院長, 村井健介
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-190941 Applicant：株式会社トヨタマックス, トヨタ自動車株式会社, 株式会社豊田中央研究所

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