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J-GLOBAL ID:200903067380003301
発光素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
豊栖 康弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000353833
Publication number (International publication number):2001237457
Application date: Nov. 21, 2000
Publication date: Aug. 31, 2001
Summary:
【要約】【課題】 Inを含む窒化物半導体からなる活性層を有する発光素子、特に長波長(550nm以上)の光を発光する発光素子の発光出力を向上させる。【解決手段】 n型半導体層とp型半導体層の間に活性層が形成された発光素子であって、活性層は、Inを含むInx1Ga1-x1N(x1>0)からなる井戸層と、その井戸層上に形成されるAlを含むAly2Ga1-y2N(y2>0)からなる第1障壁層とを含む。
Claim (excerpt):
n型半導体層とp型半導体層の間に活性層が形成された発光素子であって、前記活性層は、Inを含むInx1Ga1-x1N(x1>0)からなる井戸層と、前記井戸層上に形成されるAlを含むAly2Ga1-y2N(y2>0)からなる第1障壁層とを含むことを特徴とする発光素子。
IPC (2):
FI (2):
H01L 33/00 C
, H01S 5/343
F-Term (14):
5F041AA04
, 5F041AA11
, 5F041AA40
, 5F041CA05
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA57
, 5F041CA65
, 5F073AA74
, 5F073BA09
, 5F073CA07
, 5F073CB05
, 5F073EA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-053353
Applicant:株式会社東芝
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窒化ガリウム系半導体光発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-213412
Applicant:株式会社東芝
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AlInGaN系半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-074220
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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3族窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-180165
Applicant:豊田合成株式会社
-
窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-314339
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
窒化物系半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-234881
Applicant:株式会社東芝
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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