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J-GLOBAL ID：200903067604845150

反射防止コーティング用組成物

Inventor： 吉田 丈夫 ,  田中 初幸
Applicant, Patent owner： ヘキストインダストリー株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996129056
Publication number (International publication number)：1997291228
Application date： Apr. 25, 1996
Publication date： Nov. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジスト膜上に良質の干渉防止膜を形成するための反射防止コーティング用組成物を提供する。【解決手段】 パーフロロアルキルスルフォン酸、有機アミン、ポリビニルピロリドン、水溶性アルキルシロキサン重合体及び水を含有する反射防止コーティング用組成物。この組成物の使用によれば、難溶化層形成が低減され、表面にパーティクルや結晶状の析出を生じさせず、及び屈折率の低い干渉防止膜が形成できる。

Claim (excerpt)：

パーフロロアルキルスルフォン酸、有機アミン、ポリビニルピロリドン、水溶性アルキルシロキサン重合体及び水を含有することを特徴とする反射防止コーティング用組成物。

IPC (6)：

C09D 5/00 PPQ ,  C09D139/06 PGL ,  C09D183/04 PMT ,  C09D183/06 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (6)：

C09D 5/00 PPQ ,  C09D139/06 PGL ,  C09D183/04 PMT ,  C09D183/06 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

• 反射防止コーティング用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-131096   Applicant：ヘキストインダストリー株式会社
• レジスト用塗布液及びそれを用いたレジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-327610   Applicant：東京応化工業株式会社
• 表面反射防止コーティングフィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-128453   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 表面反射防止膜用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-065993   Applicant：三菱化学株式会社
• 光反射性防止材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-345213   Applicant：信越化学工業株式会社
• 微細レジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-221444   Applicant：三菱電機株式会社
• コーティング組成物及びプラスチック基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-315639   Applicant：株式会社ニコン
• 特開昭61-246255
  
• 特開昭55-120672
  
• 特開昭52-105935
  
• 特開昭61-162553
  
• 改良された反射防止表面処理塗膜
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-512016   Applicant：ヘキストセラニーズコーポレーション, ヘキストアクチェンゲゼルシャフト
• しわを減少させる組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-516102   Applicant：ザプロクターエンドギャンブルカンパニー
• 特表平2-502806