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J-GLOBAL ID：200903067604845150

反射防止コーティング用組成物

Inventor：
吉田 丈夫

About 吉田 丈夫

, 
田中 初幸

About 田中 初幸


Applicant, Patent owner：
ヘキストインダストリー株式会社

About ヘキストインダストリー株式会社


Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996129056
Publication number (International publication number)：1997291228
Application date： Apr. 25, 1996
Publication date： Nov. 11, 1997
Summary：
【要約】【課題】 フォトレジスト膜上に良質の干渉防止膜を形成するための反射防止コーティング用組成物を提供する。【解決手段】 パーフロロアルキルスルフォン酸、有機アミン、ポリビニルピロリドン、水溶性アルキルシロキサン重合体及び水を含有する反射防止コーティング用組成物。この組成物の使用によれば、難溶化層形成が低減され、表面にパーティクルや結晶状の析出を生じさせず、及び屈折率の低い干渉防止膜が形成できる。
Claim (excerpt)：
パーフロロアルキルスルフォン酸、有機アミン、ポリビニルピロリドン、水溶性アルキルシロキサン重合体及び水を含有することを特徴とする反射防止コーティング用組成物。
IPC (6)：
C09D 5/00 PPQ ,  C09D139/06 PGL ,  C09D183/04 PMT ,  C09D183/06 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027
FI (6)：
C09D 5/00 PPQ ,  C09D139/06 PGL ,  C09D183/04 PMT ,  C09D183/06 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (14)
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Cited by examiner (14)
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