Pat
J-GLOBAL ID:200903068302078075
ポジ型感放射線性組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002141737
Publication number (International publication number):2003035948
Application date: May. 16, 2002
Publication date: Feb. 07, 2003
Summary:
【要約】【課題】 活性光線の照射によるパターン形成において、高感度、高解像度を示すポジ型感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線の照射により酸を発生する特定の構造の化合物少なくとも1種、及び(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。
Claim (excerpt):
(A)活性光線の照射により酸を発生する下記式(I)に示す化合物少なくとも1種、及び(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】式(I)中、R1〜R5は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基又はアリール基を表し、R1〜R5のうち少なくとも2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。R6及びR7は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はアリール基を表す。Y1及びY2は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表し、Y1とY2とが結合して環を形成してもよい。Y3は、単結合または2価の連結基を表す。X-は、非求核性アニオンを表す。但し、R1からR5の少なくとも1つとY1又はY2の少なくとも一つが結合して環を形成するか、若しくは、R1からR5の少なくとも1つとR6又はR7の少なくとも1つが結合して環を形成する。尚、R1からR7のいずれか、若しくは、Y1又はY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、式(I)の構造を2つ以上有していてもよい。
IPC (2):
G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
FI (2):
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
F-Term (13):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB41
, 2H025CC20
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-332968
Applicant:日本電気株式会社
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光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-347900
Applicant:日本電気株式会社
-
ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-243346
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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化学増幅型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-291521
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-157366
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-157367
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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