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J-GLOBAL ID：200903069181932924

機能性酸化物構造体

Inventor： 舟窪 浩 ,  中木 寛 ,  藤澤 隆志 ,  加茂 嵩史 ,  坂下 幸雄
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008052319
Publication number (International publication number)：2009212225
Application date： Mar. 03, 2008
Publication date： Sep. 17, 2009
Summary：

【課題】正方晶系の結晶構造を有する機能性酸化物膜を備えた機能性酸化物構造体において、機能性酸化物膜を(001)優先配向とする。【解決手段】機能性酸化物構造体1は、基板10上に、正方晶系の結晶構造を有する機能性酸化物膜30を備えた機能性酸化物構造体であって、基板10がフッ化カルシウムを主成分とするものであり、基板10の熱膨張係数αsub(°C-1)より機能性酸化物膜30の熱膨張係数αfilm(°C-1)が小さいことを特徴としている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板上に、正方晶系の結晶構造を有する機能性酸化物膜を備えた機能性酸化物構造体であって、 前記基板がフッ化カルシウムを主成分とするものであり、 該基板の熱膨張係数より前記機能性酸化物膜の熱膨張係数が小さいことを特徴とする機能性酸化物構造体。

IPC (4)：

H01L 41/09 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105 ,  H01L 41/187

FI (4)：

H01L41/08 C ,  H01L27/10 444C ,  H01L41/18 101B ,  H01L41/18 101D

F-Term (7)：

5F083FR01 ,  5F083GA27 ,  5F083HA10 ,  5F083JA14 ,  5F083JA15 ,  5F083JA38 ,  5F083JA45

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 光学薄膜の製造方法及び光学薄膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-308894   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 機能性酸化物構造体、及び機能性酸化物構造体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-052318   Applicant：富士フイルム株式会社, 国立大学法人東京工業大学
• 強誘電体薄膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-039802   Applicant：ティーディーケイ株式会社
• 薄膜機能部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-310650   Applicant：株式会社リコー, リコー応用電子研究所株式会社
• 圧電体、圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、液体吐出装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-227071   Applicant：キヤノン株式会社
• 電子デバイス用基板、電子デバイス、強誘電体メモリ、電子機器、インクジェット式記録ヘッドおよびインクジェットプリンタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-044370   Applicant：セイコーエプソン株式会社