ナノスケールフィーチャを備えたテンプレートが形成されている構造体およびその作製方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：後藤政喜 , 上野英夫 , 藤井正弘 , 飯田雅昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008132877
Publication number (International publication number)：2008260297
Application date： May. 21, 2008
Publication date： Oct. 30, 2008
Summary：

【課題】本発明は、基板上にナノスケール物体の数、サイズ、形状、向き、パターンおよび位置を制御して製作されたナノスケール構造体およびその作製方法を提供することを目的としている。【解決手段】本発明の1実施例による構造体およびその作製方法は、開口部の形成されているレジスト層を備えたテンプレートに、ナノスケール物体を制御してアセンブリを構成させた、基板に配置するナノスケールフィーチャを備えたパターンを形作るテンプレートが形成されているものである。【選択図】図10

Claim (excerpt)：

基板上にレジスト層を形成し、テンプレートを形成するために、前記レジスト層にインプリントリソグラフィを用いてナノスケール開口部の規則的なパターンを作り、前記インプリントリソグラフィは、前記レジスト層にインプリントの型を型押しすることを含むものであり、ナノチューブとナノ微粒子を含むグループから選ばれた複数のナノスケール物体が供給され、前記ナノスケール物体を前記テンプレートの前記開口部に収容することを特徴とする規則的なパターンのナノスケール物体を有する構造体を作製する方法。

IPC (3)：

B29C 59/02 , B82B 3/00 , H01L 21/027

FI (3)：

B29C59/02 B , B82B3/00 , H01L21/30 502D

F-Term (13)：

4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AJ08 , 4F209AJ09 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

多段インプリントリソグラフィ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-153541 Applicant：ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
カーボンナノチューブの製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-161292 Applicant：キヤノン株式会社
ナノスケール導体アセンブリとその製造方法、電界放出装置、マイクロ波真空管増幅器、及びディスプレイ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-216032 Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

Microelectronic Engineering, 1997, 35, p.237-240
Microelectronic Engineering, 2002, 61-62, p.393-398
Microelectronic Engineering, 2002, 61-62, p.423-428

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